平成10年度CVD研究会活動記録

第27回CVD研究会「第9回夏季セミナー」(平成10年8月20〜21日、サンピア浜松

1) 酸化スズ膜の作製と電気的及び光学的性質 名古屋市工業研究所 児島雅彦
2) 硬質膜の機械的性質―付着力とトライポロジー 日本工業大学材料試験研究センター 竹内貞雄
3) WC, MoN, Mo(C,N)皮膜の生成 京都大学工学研究科 中島 剛
4) 強制流動CVD法で作製したシリカ膜による気体分離 九州大学大学院工学研究科 草壁克己
5) 熱CVD法による炭素質薄膜の調整とそのデバイス化 東海大学開発工学部 金子友彦
6) ハードコーティングのトライボロジー特性 東北大学大学院工学研究科 加藤康司
7) 温度勾配CVI法によるSiC/Al2O3複合材製造の数値シミュレーション 京都大学 橋本健治
8) CVD関連文献タイトルサービス 岐阜大学工学部 元島栖二

 

第28回CVD研究会(平成10年12月3日、京大会館

1) 有機シリコン材料からのSiC薄膜生成過程とその応用 静岡大学 畑中義式
2) レーザーMOCVDおよびレーザーCVDによる機能性薄膜の形成 ()関西新技術研究所 森川 茂
3) 液体Mo原料を用いた超伝導薄膜の作製及び成長メカニズム 超伝導工学研究所 吉田 隆
4) プラズマを用いた細管内壁への薄膜コーティング 長崎大学工学部 藤山 寛
5) 酸化シリコン系透明はっ水性薄膜のプラズマによる形成 名古屋大学 高井 治