平成10年度CVD研究会活動記録
■第27回CVD研究会「第9回夏季セミナー」(平成10年8月20〜21日、サンピア浜松)
1) | 酸化スズ膜の作製と電気的及び光学的性質 | 名古屋市工業研究所 | 児島雅彦 |
2) | 硬質膜の機械的性質―付着力とトライポロジー | 日本工業大学材料試験研究センター | 竹内貞雄 |
3) | WC, MoN, Mo(C,N)皮膜の生成 | 京都大学工学研究科 | 中島 剛 |
4) | 強制流動CVD法で作製したシリカ膜による気体分離 | 九州大学大学院工学研究科 | 草壁克己 |
5) | 熱CVD法による炭素質薄膜の調整とそのデバイス化 | 東海大学開発工学部 | 金子友彦 |
6) | ハードコーティングのトライボロジー特性 | 東北大学大学院工学研究科 | 加藤康司 |
7) | 温度勾配CVI法によるSiC/Al2O3複合材製造の数値シミュレーション | 京都大学 | 橋本健治 |
8) | CVD関連文献タイトルサービス | 岐阜大学工学部 | 元島栖二 |
■第28回CVD研究会(平成10年12月3日、京大会館)
1) | 有機シリコン材料からのSiC薄膜生成過程とその応用 | 静岡大学 | 畑中義式 |
2) | レーザーMOCVDおよびレーザーCVDによる機能性薄膜の形成 | (株)関西新技術研究所 | 森川 茂 |
3) | 液体Mo原料を用いた超伝導薄膜の作製及び成長メカニズム | 超伝導工学研究所 | 吉田 隆 |
4) | プラズマを用いた細管内壁への薄膜コーティング | 長崎大学工学部 | 藤山 寛 |
5) | 酸化シリコン系透明はっ水性薄膜のプラズマによる形成 | 名古屋大学 | 高井 治 |