平成９年度ＣＶＤ研究会活動記録
■第２５回ＣＶＤ研究会「第8回夏季セミナー」（平成9年8月21〜22日、滋賀厚生年金休暇センター）
| １） | 多様な気相SiCの成長カイネティクス | 東京理科大学理学部 | 金子 聰 |
| ２） | ＣＶＤ法で作製した触媒の構造と触媒作用 | 東京大学大学院理学研究科 | 岩澤康裕 |
| ３） | 膜内の応力測定と密着性の評価 | 広島県西部工業技術センター | 筒本隆博 |
| ４） | プラズマＣＶＤ法によるパイプ内面へのTiNコーティング | 住友電工(株) | 大原久典 |
| ５） | 反応器内ガス濃度(計算)分布とCVD-TiN膜のミクロ構造との関係 | 東北大学工学部 | 吉川 昇 |
| ６） | ＣＶＩ法によるC/C複合材料の形成と評価 | 川崎重工業(株) | 酒井昭仁 |
| ７） | ＣＶＩ法による耐熱フィルターの作製 | 愛知工業大学 | 大澤善美 |
| ８） | ＣＶＤ関連文献タイトルサービス | 岐阜大学工学部 | 元島栖二 |
■第２６回ＣＶＤ研究会（平成9年12月2日、愛知厚生年金会館）
| １） | パルス放電プラズマＣＶＤによるダイヤモンド膜の作製 | 愛知教育大学 | 野田三喜男 |
| ２） | ＣＶＤによる超微粒子合成プロセスの評価 | 広島大学工学部 | 奥山喜久夫 |
| ３） | ＣＶＤを利用した鋳型炭素化法による新規炭素材料の合成 | 東北大学反応化学研究所 | 京谷 隆 |
| ４） | メチール・トリ・クロロシランを用いたプラズマＣＶＤ法によるシリコンカーバイド膜の作成とそのプロセスの解析 | 東京理科大学理学部 | 金子 聰 |
| ５） | プラズマＣＶＤによるＦ添加SiO2薄膜の特性 | (株)東芝ﾏｲｸﾛｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ技術研究所 | 宮島秀史 |
| ６） | ＣＶＤ国際会議（1997/8/31〜9/5, Paris）報告 | 愛知工業大学 | 杉山幸三 |