CVD研究会今後の予定

令和6年度は，第81回研究会(夏季セミナー)を令和6年8月28日(水)〜29日(木)に静岡県浜松市浜北で開催しました。第82回CVD研究会は12月6日(金)に京都で開催します。対面のみでの開催に戻しています。オンライン配信はありません。ご了承ください。

第82回CVD研究会

第82回CVD研究会を下記の通り，京都市にて対面方式で開催します。

令和6年12月6日(金) 10:30 〜 16:50
京都経済センター（京都市）4階　午前：４−D、午後：４−F

プログラム（予定。変更の可能性あり）
10:30〜11:15	「Cat-CVDでの窒化Si膜堆積とその太陽電池応用」	北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 教授　大平 圭介 氏
11:15〜12:00	「ミストCVD法によるCr2O3基板への低欠陥Ga2O3成膜」	日本ガイシ株式会社　研究開発本部　渡邊 守道 氏
12:00〜13:30	昼休み
13:30〜13:40	令和6年度CVD研究会総会
13:40〜14:25	「PFAS規制に関して」	日本フルオロケミカルプロダクト協議会　瀬戸口 稔 氏、名倉 裕力 氏
14:25〜15:10	「原子層堆積法に向けた高反応性原料と供給方法」	大陽日酸株式会社　 清水 秀治 氏
15:10〜15:20	休憩
15:20〜16:05	「エッチングプロセスの機械学習を用いた最適化（仮題）」	株式会社日立製作所　研究開発グループ　大森 健史 氏、森崎　　　氏
16:05〜16:50	「大気圧・準大気圧プラズマによる材料プロセス： プラズマ援用インクジェット法および単結晶ダイヤモンドCVDの応用」	産業技術総合研究所　エネルギー・環境領域　新田 魁洲 氏
17:15〜19:00	技術交流会（楽坐 青天家 ラクザハレルヤ）

共催行事

• CVD反応分科会主催第6回講習会
  

  「CVD・ALDプロセスの基礎」 (PDF版案内)

  主催：	反応工学部会CVD反応分科会，CVD研究会，Cat-CVD研究会，応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
  日時：	2024年12月5日(木) 8:45〜17:00
  場所：	オンライン（Zoom ミーティング）
  参加費：	(税込・10%対象、テキスト代を含む)
  	化学工学会CVD反応分科会法人賛助会員（1口につき1人無料，2人目以降は10,000円）， 化学工学会CVD反応分科会個人会員（10,000円）， 化学工学会反応工学部会会員（12,000円）， 化学工学会会員（15,000円）， CVD研究会会員（12,000円）， Cat-CVD研究会会員（12,000円）， 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会員（12,000円）， 非会員（20,000円）， 学生（無料）
  申込方法：	Doorkeeperよりお申し込み下さい．申込直後に確認メールを送りますので，doorkeeper.jpドメインからのメール受信を可能としておいてください． アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)を明記の上，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい．
  申込締切：	12月2日（月）正午
  問い合わせ先：	CVD反応分科会事務局　E-mail：cvd@scej.org
  注意：	・参加費はクレジットカードにてお支払いください． ・支払いが終わりますと申込完了となり，"CVD反応分科会 via Doorkeeper "より申込完了通知メールが届きます． ・オンライン会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日までにメールにてお送りいたします． ・領収書が必要な方は申込完了通知メールの「申し込み内容詳細」をクリックし，「領収書データを見る」より発行ください． ・参加者による録画，録音は一切禁止とします． ・講演内容のオンデマンド配信は行いません． ・懇親会は行いません．
  開催趣旨：	CVD反応分科会では，最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムに加えて，学生や若手社員などの初学者向けにCVDプロセスの基礎を体系的に学習できる講習会を開催しています．今回は，CVDに加えて，産業界からの要望の多いALDや，計算科学の進展により強力なプロセス開発ツールとなってきた量子化学計算に関する講習も含めております．これからCVDを始める方も，更なる知識の習得を目指す方も奮ってご参加ください．
  プログラム：
  8:45〜8:50	開会挨拶
  8:50〜9:30	CVD反応と反応速度論	（京都大学） 河瀬 元明
  	CVD法の概要，反応速度論，反応解析
  9:30〜10:00	CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響	（元横浜国立大学） 羽深 等
  	CVD装置内の熱・流れと反応（観察・計算），種々装置の計算・解析例，基本的な操作と構造の意味
  10:00〜11:00	CVDプロセスの反応速度解析	（京都大学） 河瀬 元明
  	CVDプロセスにおける輸送現象と化学反応のモデル化，反応速度解析，流れと拡散
  11:00〜11:30	量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・開発	（東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)） 川上 雅人
  	量産対応 CVD 装置，反応シミュレーション，枚葉式・複数枚バッチ式，流れ解析
  11:30〜13:00	休憩
  13:00〜14:00	CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と素反応シミュレーションの実例	（産業技術総合研究所）　松木 亮 氏
  	量子化学計算，素反応，遷移状態理論，素反応シミュレーション
  14:00〜14:30	CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針	（気相成長(株)） 町田 英明
  	蒸気圧，反応性，揮発性，供給方法，輸送
  14:30〜14:45	休憩
  14:45〜16:25	ALD・ASDの基礎と応用	（東京大学） 霜垣 幸浩
  	ALD法の概要，理想特性とALD Window，選択成長（ASD），ALE（エッチング）の併用，その場観察
  16:25〜16:55	CVDによる粉体合成と粉体コーティング	（広島大学） 島田 学
  	生成・合成の原理，装置の例，粉体（微粒子）の気中挙動とその制御
  16:55〜17:00	閉会挨拶
  オーガナイザー：	河瀬元明（京都大学），杉目恒志（近畿大学）

協賛行事