CVD研究会今後の予定

第70回CVD研究会

日程	令和元年12月10日(火) 10：30 〜 17：15
会場	名古屋大学東山キャンパス ナショナル・イノベーション・コンプレックス (NIC)１階 Idea Stoa（名古屋市千種区不老町）
共催	化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
協賛(予定)	応用物理学会，近畿化学協会，表面技術協会，日本金属学会
後援(予定)	近畿経済産業局
プログラム(予定)
10:30〜11:20	「Atomic layer deposition (ALD) general overview and recent process activity」	オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社　伊藤 昌平 氏
11:20〜12:10	「サファイア基板上窒化ホウ素のCVD成長」	産業技術総合研究所 中部センター　山田 永 氏
13:30〜13:45	（令和1年度CVD研究会総会）
13:45〜14:35	「移動体用樹脂グレージングを支えるセラミックコート技術」	イビデン株式会社　久保 修一 氏
14:35〜15:25	「化学気相浸透法によるCおよびSiC含侵過程のシミュレーション」	名古屋大学大学院工学研究科化学システム工学専攻 教授　則永 行庸 氏
15:35〜16:25	「ディスプレイ向け大型ICP-CVD装置技術」	日新電機株式会社　酒井 敏彦 氏
	※講演会終了後，ご希望の方は同館4階の名古屋大学低温プラズマ科学研究センターを見学になれます。
18:00〜19:30	技術交流会

　 　 　 　 　 　 　 　

参加費	CVD研究会会員	3,000円
	関係学協会会員(大学・国公研)	5,000円
	関係学協会会員(企業関係者)	10,000円
	学生	1,000円
	その他	15,000円
技術交流会参加費	4,000円

共催行事