CVD研究会今後の予定

第70回CVD研究会

日程 令和元年12月10日(火) 10:30 〜 17:15
会場 名古屋大学東山キャンパス ナショナル・イノベーション・コンプレックス (NIC)1階 Idea Stoa(名古屋市千種区不老町)
共催 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
協賛(予定) 応用物理学会,近畿化学協会,表面技術協会,日本金属学会
後援(予定) 近畿経済産業局
プログラム(予定)

10:30〜11:20 「Atomic layer deposition (ALD) general overview and recent process activity」 オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社 伊藤 昌平 氏
11:20〜12:10 「サファイア基板上窒化ホウ素のCVD成長」 産業技術総合研究所 中部センター 山田 永 氏
13:30〜13:45 (令和1年度CVD研究会総会)
13:45〜14:35 「移動体用樹脂グレージングを支えるセラミックコート技術」 イビデン株式会社 久保 修一 氏
14:35〜15:25 「化学気相浸透法によるCおよびSiC含侵過程のシミュレーション」 名古屋大学大学院工学研究科化学システム工学専攻 教授 則永 行庸 氏
15:35〜16:25 「ディスプレイ向け大型ICP-CVD装置技術」 日新電機株式会社 酒井 敏彦 氏

※講演会終了後,ご希望の方は同館4階の名古屋大学低温プラズマ科学研究センターを見学になれます。
18:00〜19:30 技術交流会
               
参加費CVD研究会会員 3,000円

関係学協会会員(大学・国公研)5,000円

関係学協会会員(企業関係者)10,000円

学生1,000円

その他15,000円
技術交流会参加費 4,000円


共催行事

―CVD研究会事務局―
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化学工学専攻河瀬研究室
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