CVD研究会今後の予定
8/18〜19 第53回CVD研究会「第22回夏季セミナー」
| 日程 | 平成23年8月18日(木) 13:15 〜 19日(金) 12:00 | ||
| 場所 | 奈良県社会教育センター・かつらぎの森 〒639-2135 奈良県葛城市寺口1096 Tel. 0745-69-6921 （http://www.yado-katsuragi.com/) |
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| プログラム | |||
| 8月18日(木) | |||
| 13:15〜13:25 | CVD研究会臨時総会 | ||
| 13:30〜14:30 | 「物理気相蒸着法によりポリエステルフィルム基板上に形成した金属・無機・有機薄膜」 | 東海大学 工学部機械工学科 教授 岩森 暁 氏 | |
| 14:30〜15:30 | 「プラズマCVDにおける微結晶Si薄膜の高速成膜」 | 大阪大学 大学院工学研究科カネカ基盤技術協働研究所 特任准教授 外山 利彦 氏 | |
| 15:30〜15:45 | 休憩 | ||
| 15:45〜16:45 | 「窒化物半導体のMOVPE法成長過程のシミュレーション解析」 | 東京理科大学 理学部応用物理学科 教授 大川 和宏 氏 | |
| 16:45〜17:45 | 「最近の酸化物系セラミックスのCVD」 | 東京理科大学 理工学部工業化学科 教授 伊藤 滋 氏 | |
| 18:00〜20:00 | 懇親会（於．かつらぎの森） | ||
| 宿泊（於．かつらぎの森） | |||
| 8月19日(金) | |||
| 9:00〜10:00 | 「熱CVD法によるグラフェンの合成とトランジスタへの応用」 | 産業技術総合研究所 グリーン・ナノエレクトロニクスセンター 佐藤 信太郎 氏 | |
| 10:00〜11:00 | 「CVDによるグラフェン成膜と透明電極・カーボン薄膜太陽電池」 | 中部大学 総合学術研究院 客員教授 梅野 正義 氏 | |
| 11:00〜12:00 | 「無菌充填対応ホット販売用PETボトルの開発」 | 大日本印刷株式会社 包装事業部 包装研究所 太田 美恵 氏 | |
| 12:00 | 解散 | ||
| 定員 | 30名 | ||
| 参加費 | 企業会員 | 33,000円 | |
| 個人会員 | 24,000円 | ||
| 共催・後援団体会員(大学・国公研) | 24,000円 | ||
| 共催・後援団体会員(企業関係者) | 42,000円 | ||
| 学生 | 16,000円 | ||
| その他 | 48,000円 | ||
| 申込締切 | 平成23年 7月22日(金) | ||
| 申込方法 | 必要事項をご記入の上，下記宛 e-mail または Fax でお申し込み下さい（できればe-mailでお願いします）。 参加費は前納といたします。送金は上記締切日までにお振込み下さい。領収書は会場にてお渡しいたします。別途請求書が必要な場合はご連絡下さい。 | ||
| （参加申込先） | CVD研究会事務局 （河瀬 元明） e-mail: cvd cheme.kyoto-u.ac.jp |
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| 〒615-8510 京都市西京区京都大学桂 京都大学工学研究科化学工学専攻反応工学分野内 | |||
| Tel: 075-383-2665, Fax: 075-383-2655 | |||
第54回CVD研究会
平成23年12月12日(月) 10:30 〜 17:30，名古屋大学にて開催予定共催行事
- 5/20 ミニシンポジウム「ナノカーボン製造プロセスとエレクトロニクス応用」(東京)
主催 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 共催 CVD 研究会，フラーレン・ナノチューブ学会 日程 平成23年5月20日(金) 13:00〜16:45 (12:30 受付開始)
地震のため3月15日から5月20日に変更になりました場所 東京大学武田先端知ビル５階武田ホール
当初，東京大学山上会館２階大会議室を予定していましたが，変更になりましたカーボンナノチューブおよびグラフェンは，単原子層レベルの特異な1次元/2次元構造を持つナノ材料として，多様な応用が期待されています。電子デバイスでは，高いキャリア易動度を持つ半導体材料として，また高い導電性と許容電流密度を持つ配線材料として，集積回路応用が期待されています。また分散・塗布が可能で，柔軟で耐摩耗性も高く安定なことから，フレキシブル・プリンテッドエレクトロニクス応用も期待されています。ありふれた炭素で多機能を実現できることは元素戦略面でも有望ですが，高度な機能化や低コスト・大規模製造の実現には，プロセス技術が欠かせません。 本シンポジウムでは，これらナノカーボンのCVD法での合成から，エレクトロニクス分野でのデバイス開発まで，プロセス技術を重視して気鋭の研究者にご紹介頂き，議論することを目的とします。
プログラム 13：00〜13：05 開会挨拶 13：05〜13：45 1．「eDIPS-CVD法で合成した単層カーボンナノチューブの構造と物性の制御」 （産業技術総合研究所） 斎藤 毅 氏 13：45〜14：25 2．「単層カーボンナノチューブの基板上高速成長とカスタム合成」 （東京大学） 野田 優 氏 14：25〜14：45 Coffee Break 14：45〜15：25 3．「カーボンナノチューブトランジスタ：成長技術とプロセス技術」 （名古屋大学） 大野 雄高 氏 15：25〜16：05 4．「グラフェン、カーボンナノチューブの合成とLSIへの応用」 （産業技術総合研究所・(株)富士通研究所） 佐藤 信太郎 氏 16：05〜16：45 5．「カーボンナノチューブを用いたプリンテッドエレクトロニクス」 （早稲田大学） 竹延 大志 氏 16：45〜17：00 6．「COMSOLによるカーボンチューブにおけるプラズマのシミュレーション技術」 （計測エンジニアリングシステム株式会社） トン リチュ 氏 17：00〜19：00 懇親会（参加費：一般2,000円，学生1,000円，会場：東京大学武田先端知ビル５階ホワイエ） 【参加費】 化学工学会 CVD 反応分科会会員（2,000 円），化学工学会会員（4,000 円），学生（無料），CVD 研究会会員（4,000 円），フラーレン・ナノチューブ学会会員（4,000 円），非会員（10,000 円） 申込方法 (1)氏名，(2)勤務先(所属)，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格（所属学会等)，(5)懇親会参加・不参加 を明記の上，cvd@scej.org までメールしてください。 - 6/10 シンポジウム「薄膜評価・分析の基礎と最先端」(東京)
主催 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 共催 CVD 研究会 日程 平成23年6月10日(金) 10:30〜18:00
(懇親会 18:30〜19:50)場所 京都大学 東京オフィス（品川インターシティA棟27階） 最先端の薄膜製造プロセスにおいては，薄膜の膜厚や組成などを単原子レベルで精密にコントロールすることが要求されています。それにともない，原子層レベルでの薄膜の厚さや組成などを分析する技術および結晶性や欠陥・ひずみなどを評価する技術が不可欠となっています。また，in situ かつリアルタイムに製膜プロセスを監視・制御することの重要性も増しています。本シンポジウムでは，このような薄膜評価・分析技術に関して，第一線でご活躍される著名な先生方と機器メーカーの開発担当者・研究者からご講演頂くことで、薄膜評価・分析技術の基礎から実用段階の最新技術動向および今後の展開をも議論する場となることを期待し，会を企画いたしました。
プログラム 10:30〜11:15 1．「エピタキシャル膜の表面原子構造とin situ観察手法」 （物質・材料研究機構） 大竹 晃浩 氏 11:15〜11:40 2．「III-V化合物半導体エピタキシャル成長のin situ観察とデバイス応用」 （東京大学） 杉山 正和 氏 11:40〜12:05 3．「走査型プローブ顕微鏡の最前線と解析事例」 （エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)） 山岡 武博 氏 12:05〜13:05 Lunch Time 13:05〜13:50 4．「非平衡プラズマの発光分光計測の原理と実践〜電子温度，ガス温度，ラジカル密度」 （東京工業大学） 赤塚 洋 氏 13:50〜14:15 5．「プラズマプロセスモニタリング装置の最前線 〜 プロセス監視と膜厚計測」 （浜松ホトニクス(株)） 増岡 英樹 氏，中野 哲寿 氏 14:15〜15:00 6．「光電子分光による薄膜解析：基礎から応用」 （東京大学） 尾嶋 正治 氏 15:00〜15:25 7．「表面分析の最前線及び解析事例」 （アルバック・ファイ(株)） 星 孝弘 氏 15:25〜15:40 Coffee Break 15:40〜16:25 8．「エピタキシャル膜のX線，電子線による構造解析」 （大阪大学） 酒井 朗 氏 16:25〜16:50 9．「X線による薄膜の構造評価と三次元ナノ形状の解析」 （(株)リガク） 中野 朝雄 氏 16:50〜17:35 10．「電子顕微鏡による薄膜の構造解析・化学分析」 （東京大学） 阿部 英司 氏 17:35〜18:00 11．「電子顕微鏡の最前線と解析事例」 （日本電子(株)） 遠藤 徳明 氏 18:20〜19:50 懇親会（一般2,000円，学生1,000円，会場：講演会場と同じ） 【参加費】 化学工学会 CVD 反応分科会会員（2,000 円），化学工学会会員（4,000 円），学生（無料），CVD 研究会会員（4,000 円），非会員（10,000 円） 申込方法 (1)シンポジウム名「薄膜評価・分析」シンポジウム，(2)氏名，(3)勤務先(所属)，(4)連絡先E-mail，(5)参加資格（所属学会等），(6)懇親会参加・不参加を明記の上，cvd@scej.org までメールしてください。 申込締切 6月3日(金)