CVD研究会今後の予定
第84回研究会(夏季セミナー)は令和7年8月21日(木)〜22日(金)に熊本で開催し、JASMを訪ねます。第85回CVD研究会は例年通り12月に開催します。9日(火)に名古屋で開催します。
第84回CVD研究会(第34回夏季セミナー)
第84回CVD研究会は、下記の通り、熊本市で行います。話題の JASM 熊本工場を訪問します（ただし、生産設備は見られません。）
令和7年8月21日(木) 13:00 〜 8月22日(金) 12:00熊本市民会館 シアーズホーム夢ホール（熊本市）ならびに Japan Advanced Semiconductor Manufacturing 株式会社(JASM) 熊本工場
共催 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
| プログラム（予定。変更の可能性あり） | |||
| 1日め 8/21(木) | |||
| 13:15〜13:20 | 開会挨拶 | ||
| 13:20〜14:10 | 「絶縁膜成膜プロセスにおける大規模カバレッジ・膜質分布の予測と制御」 | ソニーセミコンダクタソリューションズ(株) | |
| 14:10〜15:00 | 「ECRプラズマを応用したスパッタ成膜技術とCVD成膜技術」 | (株)日本製鋼所 イノベーションマネジメント本部 電子デバイス技術研究所長 | |
| 15:00〜15:10 | 休憩 | ||
| 15:10〜16:00 | 「プラズマプロセスによる機能性材料の合成技術」 | 長崎大学 大学院総合生産科学研究科 教授 | |
| 16:00〜17:00 | 「切削工具のためのCVD技術： 基礎から最先端応用まで」 | 京セラ(株) 鹿児島川内工場 機械工具事業本部 機械工具材料開発部 | |
| 宿泊 | 熊本グリーンホテルならびに東横イン熊本新市街 | ||
| 2日め 8/22(金) | |||
| 8:30〜9:00 | (バス移動) | ホテル〜熊本大学 | |
| 9:00〜10:00 | 大学訪問 | 熊本大学 工学部半導体デジタル研究教育機構 百瀬研究室ならびに半導体関係施設 | |
| 10:00〜10:30 | (バス移動) | 熊本大学〜JASM熊本工場 | |
| 10:30〜11:30 | 工場訪問 | Japan Advanced Semiconductor Manufacturing 株式会社(JASM)熊本工場 | |
| 11:30〜12:00 | バス移動 | JASM熊本工場〜JR肥後大津駅〜熊本空港 | |
| 参加費 | CVD研究会業界会員，業界個人会員 | 33,000円 |
| CVD研究会個人会員 | 24,000円 | |
| 共催・協賛団体会員(大学・国公立研究機関関係者) | 29,000円 | |
| 共催・協賛団体会員(企業関係者) | 42,000円 | |
| 一般 | 48,000円 | |
| 学生 | 16,000円 | |
| 29名 | ||
| 令和7年8月6日(水) 15時（締め切り前でも定員に達し次第申込受付を終了させていただきます。） | ||
| Google フォーム https://forms.gle/HeUstsVJRuDG4VnQAよりお申し込みください。シンポジウムおよび情報交換会の参加費合計額を、以下の口座へお振り込みください。申し訳ございませんが、今回はクレジットカード決済の取り扱いはございません。 請求書、領収書が必要な方は、事務局にご連絡ください。 三菱UFJ銀行 洛西出張所
なお、当研究会はインボイス制度の適格請求書発行事業者に登録しておりません。ご理解くださいますようお願い申し上げます。普通口座：３７４１２２０ 口座名義： ＣＶＤ研究会事務局河瀬元明 （シーウ゛イテ゛イーケンキュウカイ カワセ） （漢字名とカナ名の不一致は銀行のシステムの制限によるものです） |
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| CVD研究会 （会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆） 〒615-8510 京都市西京区京都大学桂 |
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共催行事
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化学工学会CVD反応分科会 第42回CVD反応分科会シンポジウム
「半導体産業における洗浄・乾燥技術の最新動向」主催 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会 共催 CVD研究会, Cat-CVD研究会 日程 2025年8月29日(金) 13:00〜16:40（予定） 会場 Zoomによるオンラインリアルタイム配信 参加費(税込) 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員（無料）， 化学工学会 CVD反応分科会個人会員（3,000円）， 化学工学会 反応工学部会会員（4,000円），化学工学会会員（5,000円）， CVD研究会会員（5,000円），Cat-CVD研究会会員（5,000円）， 非会員（12,000円），学生（オンライン無料） プログラム（予定） 12:45 Zoom開場 13:00〜13:05 開会挨拶 東京科学大学 下山 裕介 13:05〜13:45 「半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術」 オフィスシラミズ
白水 好美 氏13:45〜14:25 「半導体ウェット洗浄におけるシミュレーション事例」 SCREENセミコンダクターソリューションズ
佐藤 雅伸 氏14:25〜15:05 「半導体ウエハーの洗浄および乾燥工程に関する熱流体工学解析」 群馬大学
天谷 賢児 氏15:05〜15:15 休憩 15:15〜15:50 「半導体の二流体スプレー洗浄時における静電気障害」 愛知工業大学
清家 善之 氏15:50〜16:30 「超臨界乾燥技術」 レクザム
山内 守 氏16:30〜16:40 閉会挨拶 CVD反応分科会代表
京都大学 河瀬元明シンポジウムオーガナイザー 下山 裕介（東京科学大学），清水 秀治（大陽日酸株式会社），西田 哲（岐阜大学）
cvd.jpn.org