平成20年度CVD研究会活動記録

第47回CVD研究会「第19回夏季セミナー」

平成20年8月21日(木) 13：00 〜 8月22日(金) 12：00
城陽市サイクリングターミナル アイリスイン城陽（京都府城陽市）
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会

8月21日(木)
13:00〜14:00	「大気圧プラズマ法で作製したDLCの応用」	慶應義塾大学大学院 環境・資源・エネルギー専修	鈴木 哲也　氏
14:00〜14:50	「ナノ結晶CVD ダイヤモンド薄膜の異方性弾性定数と微細構造」	大阪大学 大学院 基礎工学研究科	多根井 寛志　氏
15:10〜16:00	「プラズマCVD法によるDLC膜のトライボロジー特性」	株式会社ＩＨＩ プロジェクト推進営業部	和住 光一郎　氏
16:00〜16:50	「塩化物の気相水素還元による金属ナノ粒子の合成と焼結特性」	株式会社フジクラ	鎌田 弘之　氏
16:50〜17:50	「レーザーCVD法によるエンジニアリングセラミックスの高速成膜」	東北大学 金属材料研究所	後藤　孝　氏
8月22日(金)
9:10〜10:00	「PVDによる硬質膜形成とその工業的応用」	日本コーティングセンター株式会社	川名 淳雄　氏
10:00〜11:00	「プラズマを利用した熱拡散処理によるチタン・ステンレス鋼の強化」	株式会社田中 研究部	辻　宣佳　氏
11:00〜11:50	「固相・気相合成によるBNナノ物質」	滋賀県立大学 工学研究科 材料科学専攻	奥　健夫　氏

第48回CVD研究会

平成20年12月8日(月)　10:45 〜 17:15
京都大学桂キャンパスBクラスター事務管理棟会議室
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会

10:45〜11:35	「高周波熱プラズマによるナノ粒子合成」	東京工業大学 大学院 総合理工研究科	渡辺 隆行 氏
11:35〜12:25	「ガスタービンにおける耐熱コーティング技術の進展」	(株)東芝 電力システム社 電力・社会システム技術開発センター	伊藤 義康 氏
	平成20年度CVD研究会CVD研究会総会
13:35〜14:25	「薄膜Si太陽電池製造装置　メーカーの立場から」	(株)アルバック 第1 FPD事業部	菊池 正志 氏
14:25〜15:15	「薄膜の密着性改善」	荒川化学工業(株) 研究所 機能材料事業部	岩村 栄治 氏
15:35〜16:25	「プラズマ技術を用いた炭素系電極材料および構造規制界面の作製と電気化学プロセス制御」	山口大学 大学院 理工学研究科 環境共生系専攻	本多 謙介 氏
16:25〜17:15	「DLC膜を構造から斬る！」	兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所	神田 一浩 氏

共催行事

• CVDミニシンポジウム　「MEMSにおける製膜・表面修飾技術とそのメカニズム」
  

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
  共催	CVD 研究会
  日程	平成20年12月22日(月) 13：00〜
  場所	東京大学本郷キャンパス　山上会館
  開催趣旨	MEMSはシリコンやガラスなどの３次元構造をベースにセンサ・アクチュエータの機能を発現するデバイスですが，その機能は表面修飾に大きく依存します．MEMSに求められる機能が多様化するにつれ，複雑な３次元構造に対する均一な表面修飾技術が求められるとともに，表面修飾層の材料も，従来の酸化膜・金属から機能性有機膜に拡がり，さらに生体材料への展開が図られています．本シンポジウムでは，このようなMEMSの機能の心臓部である表面修飾層について，アプリケーションを念頭におきつつ，材料技術とプロセス技術の基礎を深めることを目指し，第一線の研究者に講演をお願いしました．デバイス開発の過程で看過されがちな，「なぜ？」をフランクに議論できる場を提供できれば幸いです．
  13:00〜13:10	趣旨説明
  	（東京大学） 杉山 正和 氏
  13:10〜13:55	「生体にアプローチする製膜技術：脂質２重膜の製膜」
  	（東京大学） 竹内 昌治 氏
  13:55〜14:40	「３次元構造のパリレン製膜による表面機能化」
  	（東京大学） 鈴木 雄二 氏
  14:40〜15:00	「ポリパラキシリレンの成膜プロセスと化学的・物理的特性」
  	（第三化成） 井上 崇 氏
  15:05〜15:20	休憩
  15:20〜16:05	「機能性有機薄膜の分子配向制御と光電子機能発現」
  	（九州大学） 安達 千波矢 氏
  16:05〜16:50	「MEMS３次元構造への製膜・表面修飾技術としてのCVD・超臨界製膜技術のベンチマーク」
  	（東京大学） 霜垣 幸浩 氏