CVD研究会実績
平成7年から現在までの講演者の一覧です。
| CVD 21 (H7.8) | CVDによる熱電変換材料の合成 | 名古屋大学工学部 | |
| 電子材料CVD用高純度ガス | 日本酸素(株) | ||
| CVD用有機金属試薬 | (株)高純度化学研究所 | ||
| CVD用反応器、配管材料、計装器 | (株)コーテック | ||
| 常温核融合 | (財)応用科学研究所 | ||
| 光学機器を用いた微細結晶の結晶学的・機械的特性の評価法 | 長崎大学教養部 | ||
| プラズマCVDプロセスにおけるプラズマ制御 | セントラル硝子(株) | ||
| CVD 22 (H7.12) | CVDによる耐酸化性イリジウムコーティング | 三菱重工業(株) | |
| CVDによるB/C/N系薄膜の合成とその特性 | 大阪電気通信大学 | ||
| EURO-CVD 10 報告 | 岐阜大学工学部 | ||
| エキシマレーザCVDによる無機薄膜の作製 | 物質工学工業技術研究所 | ||
| CVDによる粉体へのセラミックコーティング | 九州大学工学部 | ||
| CVD 23 (H8.8) | 表面処理とセラミック組織設計 | JFCC | |
| ダイヤモンド膜、DLCの応用と課題 | 松下電器産業(株) | ||
| ガスデポジション法による超微粒子薄膜の形成法 | 真空冶金(株) | ||
| 傾斜機能セラミックスのCVD | 室蘭工業大学 | ||
| CVD被覆工具の性能に及ぼす膜組織の影響 | 東芝タンガロイ(株) | ||
| CVDによる炭素―窒素化合物の合成と電気化学的特性 | 京都大学工学研究科 | ||
| CVD 24 (H8.12) | イオン化CVDによるTEOS/O3膜の形成 | 大阪府立大学先端科学研究所 | |
| 高エネルギー・プラズマ複合CVDによる被膜形成 | 石川島播磨重工業(株)技術研究所 | ||
| セラミック膜中に存在する欠陥の形態とその電気化学的手法による評価 | 工学院大学工学部 | ||
| ダイヤモンドの高密着性コーティング | 名古屋大学理工科学総合研究センター | ||
| CVD 25 (H9.8) | 多様な気相SiCの成長カイネティクス | 東京理科大学理学部 | |
| CVD法で作製した触媒の構造と触媒作用 | 東京大学大学院理学研究科 | ||
| 膜内の応力測定と密着性の評価 | 広島県西部工業技術センター | ||
| プラズマCVD法によるパイプ内面へのTiNコーティング | 住友電工(株) | ||
| 反応器内ガス濃度(計算)分布とCVD-TiN膜のミクロ構造との関係 | 東北大学工学部 | ||
| CVI法によるC/C複合材料の形成と評価 | 川崎重工業(株) | ||
| CVI法による耐熱フィルターの作製 | 愛知工業大学 | ||
| CVD 26 (H9.12) | パルス放電プラズマCVDによるダイヤモンド膜の作製 | 愛知教育大学 | |
| CVDによる超微粒子合成プロセスの評価 | 広島大学工学部 | ||
| CVDを利用した鋳型炭素化法による新規炭素材料の合成 | 東北大学反応化学研究所 | 京谷 隆 | |
| メチール・トリ・クロロシランを用いたプラズマCVD法によるシリコンカーバイド膜の作成とそのプロセスの解析 | 東京理科大学理学部 | ||
| プラズマCVDによるF添加SiO2薄膜の特性 | (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所 | ||
| CVD 27 (H10.8) | 酸化スズ膜の作製と電気的及び光学的性質 | 名古屋市工業研究所 | |
| 硬質膜の機械的性質―付着力とトライポロジー | 日本工業大学材料試験研究センター | ||
| WC, MoN, Mo(C,N)皮膜の生成 | 京都大学工学研究科 | ||
| 強制流動CVD法で作製したシリカ膜による気体分離 | 九州大学大学院工学研究科 | ||
| 熱CVD法による炭素質薄膜の調整とそのデバイス化 | 東海大学開発工学部 | ||
| ハードコーティングのトライボロジー特性 | 東北大学大学院工学研究科 | ||
| 温度勾配CVI法によるSiC/Al2O3複合材製造の数値シミュレーション | 京都大学工学研究科 | ||
| CVD 28 (H10.12) | 有機シリコン材料からのSiC薄膜生成過程とその応用 | 静岡大学 | |
| レーザーMOCVDおよびレーザーCVDによる機能性薄膜の形成 | (株)関西新技術研究所 | ||
| 液体Mo原料を用いた超伝導薄膜の作製及び成長メカニズム | 超伝導工学研究所 | ||
| プラズマを用いた細管内壁への薄膜コーティング | 長崎大学工学部 | ||
| 酸化シリコン系透明はっ水性薄膜のプラズマによる形成 | 名古屋大学 | ||
| CVD 29 (H11.8) | 赤外半導体レーザー吸光分光法によるCVD化学種の計測 | 名古屋大学 | |
| 熱CVD法による強誘電体薄膜の合成 | 東京工業大学 | ||
| 高密着性α-Al2O3被覆工具の開発 | 日立金属(株) | ||
| ナノチューブ(カーボン、BN)の合成、構造、特性 | 三重大学 | ||
| 単一蒸発容器を持つ多成分膜堆積MOCVD装置の開発とPbTiO3への応用 | 東京理科大学 | ||
| CVD法によるAl2O3超微粒子の合成とナノ構造セラミックスの作製 | 豊橋技術科学大学 | ||
| 黒鉛上へのCVD-SiCコーティングの高温耐酸化性と微細構造 | 日新製鋼(株) | ||
| パルスCVIによるリチウムイオン二次電池電極の作製 | 愛知工業大学 | ||
| CVD 30 (H11.11) | 高温CVD法によるB/C/N系膜の合成と物性 | 大阪電気通信大学 | |
| C/C複合材料の耐SiCコーティング | 宇宙科学研究所 | ||
| CVD装置内の濃度、温度および流れの可視化 | 九州大学 | ||
| CVD法による熱電変換材料の合成 | 工業技術院 | ||
| プラズマCVDの反応解析 | 日本電気(株) | ||
| CVD 31 (H12.8) | プロセスプラズマソース ―アークプラズマを中心として― | 中央大学 | |
| プラズマCVD堆積希土類およびフッ素添加シリカ薄膜の性質 | 早稲田大学 | ||
| 気相法によるSi3N4ウィスカーコーティングと濾過フィルターへの応用展開 | 住友電工(株) | ||
| CVDの異常成長について | 大阪大学 | ||
| Ti-Al-N系コーティング膜の組織と性質 | 東北大学 | ||
| 化学気相含浸によるセラミックガスタービン部材の性能向上 | 川崎重工業(株) | ||
| 浮遊式流動層CVDによる複合粉末の合成 | 新潟大学 | ||
| ガスタービン遮熱コーティングの開発現状 | (株)東芝 | ||
| CVD 32 (H12.12) | C/C-SiC傾斜機能材の組織分布制御 | 京都大学工学部 | |
| CVD成膜の物理学 | 広島大学工学部 | ||
| コスモ・ミメティックなカーボンマイクロコイルの気相合成とその特性 | 岐阜大学工学部 | ||
| 動機は不純だが37年 | 名古屋大学名誉教授･前CVD研究会会長 | ||
| CVD 33 (H13.8) | ドライプロセスによる機械的特性の向上の現状と将来 | 茨城大学客員教授 | |
| CVD処理の寸法変化 | 清水電設工業(株) | ||
| エネルギー応用を目指したSiC/SiC複合材料のF-CVI法による開発 | 京都大学 | ||
| 大気開放型CVD法による酸化物ミクロ構造制御 | 長岡技術科学大学 | ||
| FIB―CVD法による三次元構造形成技術 | セイコーインスツルメンツ(株) | ||
| 貴金属MOCVDプロセス | 田中貴金属工業(株) | ||
| フロロカーボン膜のプラズマCVD | 京都大学国際融合創造センター | ||
| プラズマCVDによる微粒子成長とクーロン結晶の形成 | 京都工芸繊維大学 | ||
| CVD法によるタングステン系化合物の厚膜合成 | セントラル硝子(株) | ||
| CVD 34 (H13.11) | 高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用 | 名古屋大学大学院工学研究科 | |
| 球状インデンターによるガラス状炭素へのナノインデンテーション | 産業技術総合研究所･エネルギー利用研究部門 | ||
| ガスタービン用材料の耐熱コーテイング | (株)日立製作所･日立研究所 | ||
| 気相膜の応力・硬度・密着力 | 元 住友金属鉱山(株)中央研究所 | ||
| 耐高温環境用拡散浸透プロセスとその応用 | トーカロ(株) | ||
| CVD 35 (H14.8) | 超硬質薄膜の合成とその応用 | (株)イオン工学研究所 | |
| 有機ケイ素を前駆体としたイオンビーム誘起CVD法 | 産業技術総合研究所･生活環境系特別研究体 | ||
| 電子ビーム励起プラズマ(EBEP)の特長とその応用 | 川崎重工業(株) | ||
| シリカのCVDによるゼオライト細孔入口径の精密制御 | 鳥取大学工学部物質工学科 | ||
| 有機単分子膜の気相成長と微細加工への応用 | 名古屋大学大学院工学研究科 | ||
| プラズマCVD法による金型の表面処理 | オリエンタルエンヂニアリング(株) | ||
| AFMによる極薄膜の耐摩耗性と密着性の評価 | 千葉工業大学工学部 | ||
| CVD 36 (H14.12) | ナノコーティングプロジェクトの研究内容－EB, PVDによるセラミックスコーティング技術を中心に－ | (財)ファインセラミックスセンター | |
| バルク超伝導体を利用した強磁場プラズマ成膜装置 | 名古屋大学理工科学総合研究センター | ||
| 大気圧ハライドCVDによる金属窒化物薄膜の合成 | 静岡大学工学部物質工学科 | ||
| プラズマCVD法による内壁へのDLC成膜 | ナノテック(株)テクニカルセンター | ||
| 機能性複酸化物薄膜のMOCVD合成 | 東京工業大学大学院総合理工学研究科 | ||
| 気相法表面処理の基礎と応用 | 物質・材料研究機構 | ||
| CVD 37 (H15.8) | CVD法による3C-SiCのヘテロエピタキシャル成長 | 京都工芸繊維大学 | |
| 触媒CVD技術の大面積次世代ディスプレイへの応用 | 北陸先端科学技術大学院大学 | ||
| ナノ粒子の合成と機能材料への応用 | 広島大学大学院工学研究科 | ||
| 光化学的手法を用いたポリマー基板へのオキサイドナノスキンコーティング | 産業技術総合研究所 | ||
| CVDダイヤモンドの機械分野への適用 | (株)不二越 | ||
| C/Cコンポジットへの耐酸化被覆 | 日新製鋼(株) | ||
| プラズマジェットCVDによるc-BN膜の合成 | 物質･材料研究機構 物質研究所 | ||
| 熱CVDの反応工学 | 九州大学先導物質化学研究所 | ||
| CVD 38 (H15.12) | アークプラズマプロセスによるカーボンナノチューブ・ナノホーンの合成 | 豊橋技術科学大学 | |
| 化学気相反応によるSiC多孔質体とナノ構造体の合成 | 大阪府立大学大学院工学研究科 | ||
| CVD法で被覆した硬質膜のＸ線残留応力測定と強度評価 | 名古屋大学工学研究科 | ||
| テトラポット状ZnO結晶及びカーボンコイルの評価法 | 長崎大学工学部 | ||
| 強磁場化学気相法による高温超伝導セラミックス膜の成長 | 東北大学金属材料研究所 | ||
| 遮熱コーティングのための高速CVDプロセスの開発 | 東北大学金属材料研究所 | ||
| CVD 39 (H16.8) | パルスCVI法によるリチウムイオン二次電池負極用炭素の合成 | 愛知工業大学 | |
| 大気圧気相成長法による水晶薄膜の作製 | 静岡大学工学部物質工学科 | ||
| 有機Cat-CVDの基礎と応用 | 大阪市立大学＆マテリアルデザインファクトリー | ||
| ハフニウム酸化物による遮熱コーティング | (株)東芝 電力･社会システム技術開発センター | ||
| DLC膜の生体材料としての応用 | 東京電機大学理工学部 | ||
| マイクロ波CVDによるナノ結晶ダイヤモンドの合成 | 産業技術総合研究所ナノカーボンセンター | ||
| 酸化物ウィスカーの合成と先端応用 | 長岡技術科学大学 | ||
| 熱CVD法を用いたブラシ状多層カーボンナノチューブの高速成長 | 大阪府立大学大学院工学研究科 & JST研究成果活用プラザ大阪 | ||
| CVD 40 (H16.12) | DLCの現状と展望 | 日本アイ・ティ・エフ(株) | |
| SiC/SiC複合材料の界面層のための連続CVD法によるBNコーティング厚さの均一化 | 宇部興産(株)宇部研究所 | ||
| カーボンナノウォールの創成とラジカル制御プラズマCVD装置の製品化 | 名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻 | 堀 勝 | |
| MOCVD法による窒化ガリウム系半導体ヘテロエピタキシャル成長 | 名古屋工業大学・極微デバイス機能システム研究センター | ||
| 被覆超硬合金における硬質層残留応力深さ方向分布の測定に関する研究 | 三菱マテリアル(株)総合研究所 | ||
| プラズマCVDによる超はっ水薄膜の作製と応用 | 名古屋大学エコトピア科学研究機構 | ||
| CVD 41 (H17.8) | 含フッ素有機薄膜の合成－超撥水材料の最近の話題－ | (財)応用科学研究所 | |
| ペロブスカイト型Mn酸化物のMOCVD | 京都大学大学院工学研究科・電子工学専攻 | ||
| 塩化金属還元気相成長法による成膜技術の開発 | 三菱重工業(株)先進技術研究センター | ||
| 電磁鋼板へのCVD技術の適用 | JFEスチール(株)スチール研究所 | ||
| 切削工具用(TiCrAl)N膜の開発 | (株)神戸製鋼所・材料研究所 | ||
| DLC-Siコーティング技術の開発 | (株)豊田中央研究所・金属基盤研究室 | ||
| 高温ガス炉用被覆粒子燃料の被覆層 | 日本原子力研究所・物質科学研究部 | ||
| ナノパルスプラズマCVDによる大気圧下でのDLC膜の合成 | 東京工業大学 | ||
| CVD 42 (H17.12) | マイクロ波表面プラズマCVDによるカーボン薄膜の作成 | 中部大学工学部 | |
| 対向拡散CVD法による水素分離膜の開発 | 東京大学大学院工学系研究科 | ||
| エアロゾルデポジション(AD)法と常温衝撃固化現象 | 産業技術総合研究所 | ||
| プラズマCVD、Cat-CVD、熱CVDによるSiC薄膜の成長：～ 300℃でのSiC微結晶育成に向けて ～ | 東京理科大学理学部 | ||
| 基板上でのナノ粒子の自然形成の基礎と応用 | 東京大学大学院工学系研究科 | ||
| 新規カーボンナノマテリアルの創製とキャラクタリゼーション | 三重大学工学部 | ||
| CVD 43 (H18.8) | Hot-wire CVD法によるSi系薄膜太陽電池用TiO2薄膜の作製 | 岐阜大学 | |
| 金属沿面伝搬マイクロ波による高密度プラズマ生成と微小円管内面プラズマ処理への応用 | 名古屋大学大学院工学研究科 | ||
| 多結晶Si薄膜の低温堆積技術－反応性熱CVD法の開発－ | 東京工業大学 | ||
| トライボマテリアルとしてのダイヤモンド、DLCの新展開 | 日本工業大学 | ||
| 低圧高密度プラズマプロセスによるナノクリスタルダイヤモンドコーティング | 物質・材料研究機構 | ||
| CVD法による圧電体圧膜合成と評価 | 東京工業大学 | ||
| ミストCVD法による酸化物薄膜の成長 | 京都大学国際融合創造センター | ||
| Ni-Cナノクラスターを用いた表面波プラズマによるカーボンナノ材料の低温成長 | 静岡大学創造科学技術大学院 | ||
| CVD 44 (H18.11) | 有機液体原料を用いたHWCVD法によるSiCN膜の堆積とその特性 | 九州工業大学 | |
| プラズマガス凝縮法で作製した遷移金属ナノ粒子の構造と物性 | 名古屋工業大学 | ||
| 触媒活性化CVD法によるカーボンマイクロコイルの合成と特性 | 岐阜大学 | ||
| カーボンナノファイバーの室温合成とその応用 | 名古屋工業大学大学院工学研究科 | ||
| 次世代プラズマコーテイング／薄膜化技術 | 東京大学大学院工学研究科 | ||
| プラズマCVD法による酸化チタン薄膜の形成と親水性特性 | 茨城大学工学部 | ||
| CVD 45 (H19.8) | 反応性RF熱プラズマを用いたセラミックス材料のナノ構造制御 | 物質・材料研究機構 | |
| 熱プラズマCVD法によるアルコキシド溶液からのTiN基－窒化物の複合膜および2層膜のコーティグと耐摩耗性 | 北海道大学 大学院工学研究科 | ||
| SAICAS法による薄膜のはく離強度評価 | ダイプラ・ウィンテス(株) | ||
| DLC膜の耐久性向上と医療応用 | 静岡県工業技術研究所 富士工業技術支援センター | ||
| 微細構造を制御した高耐久性固体潤滑膜の形成とその特性 | 日本工業大学 工学部システム工学科 | ||
| 特殊レーザピーニングによる低温表面処理 | 名古屋大学 大学院工学研究科 | ||
| 長いフレームの大気プラズマジェットの開発と表面処理への応用 | 豊田工業大学 | ||
| 対向拡散CVD法による水素透過シリカ膜の開発 | 芝浦工業大学 工学部応用化学科 | ||
| CVD 46 (H19.12) | CVD-SiC基板上に形成した大面積カーボンナノチューブ膜 | 名古屋大学 エコトピア科学研究所 | |
| 炭酸ガスを用いたプラズマCVD～シリコン酸・窒化膜への応用～ | 東北大学 特定領域研究推進室 | ||
| 非平衡プラズマによる金属酸化物・金属窒化物粒子の生成 | 広島大学 大学院工学研究科物質化学システム専攻 | ||
| フラッシングスプレーCVD法による大口径ウエハへの薄膜の形成 | 同志社大学 大学院工学研究科機械工学専攻 | ||
| 環境に優しいDLCコーティングの現状と今後の動向 | 日本アイ・ティ・エフ(株) | ||
| DLCコーティングの動向とセグメント構造DLC膜の特性評価 | 名古屋大学 大学院工学研究科マテリアル理工学専攻 | ||
| CVD 47 (H20.8) | 大気圧プラズマ法で作製したDLCの応用 | 慶應義塾大学大学院 環境・資源・エネルギー専修 | |
| ナノ結晶CVDダイヤモンド薄膜の異方性弾性定数と微細構造 | 大阪大学 大学院 基礎工学研究科 | ||
| プラズマCVD法によるDLC膜のトライボロジー特性 | (株)ＩＨＩ プロジェクト推進営業部 | ||
| 塩化物の気相水素還元による金属ナノ粒子の合成と焼結特性 | (株)フジクラ | ||
| レーザーCVD法によるエンジニアリングセラミックスの高速成膜 | 東北大学 金属材料研究所 | ||
| PVDによる硬質膜形成とその工業的応用 | 日本コーティングセンター(株) | ||
| プラズマを利用した熱拡散処理によるチタン・ステンレス鋼の強化 | (株)田中 研究部 | ||
| 固相・気相合成によるBNナノ物質 | 滋賀県立大学 工学研究科 材料科学専攻 | ||
| CVD 48 (H20.12) | 高周波熱プラズマによるナノ粒子合成 | 東京工業大学 大学院 総合理工研究科 | |
| ガスタービンにおける耐熱コーティング技術の進展 | (株)東芝 電力システム社 電力・社会システム技術開発センター | ||
| 薄膜Si太陽電池製造装置 メーカーの立場から | (株)アルバック 第1 FPD事業部 | ||
| 薄膜の密着性改善 | 荒川化学工業(株)研究所 機能材料事業部 | ||
| プラズマ技術を用いた炭素系電極材料および構造規制界面の作製と電気化学プロセス制御 | 山口大学 大学院 理工学研究科 環境共生系専攻 | ||
| DLC膜を構造から斬る！ | 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 | ||
| CVD 49 (H21.8) | 金型・工具へのDLC応用 | ナノテック(株)常務 | |
| 大気圧マイクロプラズマの生成と薄膜プロセス応用 | 埼玉大学工学部 教授 | ||
| SiC薄膜成長と水素添加熱分解法によるSWNT/グラフェン形成 | 静岡大学電子工学研究所 教授 | ||
| 太陽電池産業の現状とCVD技術の動向 | (株)カネカ 生産技術研究所 薄膜プロセス開発グループ |
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| SiおよびSiCの自己形成ナノ構造とゆらぎ － SiC金平糖，Siナノチェイン，SiCナノワイヤ |
大阪大学理学研究科 准教授 | ||
| プラズマ反応を用いた先進的な機能薄膜作製技術 | 産業技術総合研究所 客員研究員 | ||
| 大気圧プラズマによるフッ素系ポリマーの親水化処理 | (株)ウインズ 社長 | ||
| CVD 50 (H21.12) | プラズマCVDによる単層・多層カーボンナノチューブ選択合成 | 東京工業大学 理工学研究科 | |
| セグメント構造DLC膜の合成と応用 | (株)iMott 社長 | ||
| ミスト技術の応用 －薄膜作製技術への挑戦 | 高知工科大学 ナノ・デバイス研究所 | ||
| 電磁プロセス利用による色素増感太陽電池の作製 | 東京大学 先端科学技術研究センター | ||
| IRを用いたカーボンCVD反応器内の2次元濃度分布測定 | 京都大学 工学研究科化学工学専攻 | ||
| フィルタードアーク蒸着とスーパーハードDLC成膜技術 | 豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 | ||
| CVD研究会を振り返って。。。 | 前会長 (財)豊田理化学研究所フェロー | 元島 栖二 | |
| 会長 名古屋大学 | 伊藤 秀章 | ||
| 副会長 (財)応用科学研究所 | 鄭 容宝 | ||
| CVD 51 (H22.8) | CVD技術を用いたガスバリア性膜の開発について | 大日本印刷(株)包装事業部 産業資材本部 産業資材研究所 | |
| プラズマCVD法を用いたリチウムイオン電池炭素薄膜負極および燃料電池セパレータ材料の作製 | 京都大学 工学研究科物質エネルギー化学専攻 准教授 | ||
| フレキシブル応用を目指した塗布型有機デバイスの開発と展望 | 富山大学 工学部電気電子システム工学科 教授 | ||
| 新しい反応場を用いた表面機能化プロセス ～ソリューションプラズマから自己組織化まで～ | 名古屋大学 エコトピア科学研究所 教授 | ||
| ユビキタス社会に向けたpoly-Si薄膜トランジスタ型メモリの作製と評価 | 神戸市立工業高等専門学校 電気工学科 講師 | ||
| CVD法による高性能被覆切削工具の開発 | 三菱マテリアル(株)中央研究所 | ||
| チタニアを三次元積層化した光触媒ガラス | 兵庫県立大学大学院工学研究科 物質系工学専攻 教授 | ||
| CVD 52 (H22.12) | ナノカーボン材料を用いたナノデバイスとバイオセンサー応用 | 大阪大学 産業科学研究所 量子機能科学研究部門 教授 | |
| パルスCVD/CVI法によるリチウムイオン電池活物質材料の表面修飾 | 愛知工業大学 応用化学科 教授 | ||
| AlGaN系深紫外発光素子対応半導体層のMOCVD成長 | 立命館大学 立命館グローバル・イノベーション研究機構 特別招聘准教授 | ||
| セントラル硝子の事業内容とCVD技術 | セントラル硝子(株)ファインケミカル営業第２部 | ||
| 大気圧プラズマジェットおよびアトム窒化法の研究開発 | 豊田工業大学 X線レーザー・プラズマ工学研究室 教授 | ||
| Si薄膜太陽電池とその周辺の課題 | エバテック(株)太陽電池開発本部 常務執行役員本部長 | ||
| CVD 53 (H23.8) | 物理気相蒸着法によりポリエステルフィルム基板上に形成した金属・無機・有機薄膜 | 東海大学 工学部機械工学科 教授 | 岩森 暁 |
| プラズマCVDにおける微結晶Si薄膜の高速成膜 | 大阪大学 大学院工学研究科カネカ基盤技術協働研究所 特任准教授 | 外山 利彦 | |
| 窒化物半導体のMOVPE法成長過程のシミュレーション解析 | 東京理科大学 理学部応用物理学科 教授 | 大川 和宏 | |
| 無菌充填対応ホット販売用PETボトルの開発 | 大日本印刷(株)包装事業部 包装研究所 | 太田 美恵 | |
| 熱CVD法によるグラフェンの合成とトランジスタへの応用 | 産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門 | 近藤 大雄・佐藤 信太郎 | |
| CVDによるグラフェン成膜と透明電極・カーボン薄膜太陽電池 | 中部大学 総合学術研究院 客員教授 | 梅野 正義 | |
| 最近の酸化物系セラミックスのCVD | 東京理科大学 理工学部工業化学科 教授 | 伊藤 滋 | |
| CVD 54 (H23.12) | 結晶性成長核からのカーボンナノチューブ・グラフェン形成とその機構 | 大阪大学 精密科学・応用物理学専攻 | |
| 透明蒸着バリアフィルムについて | 東洋紡績(株)フィルム開発部 | ||
| 最近の被覆切削工具について | (株)タンガロイ 技術本部 材料開発部 | ||
| パルスDC-PCVD法による各種硬質皮膜の金型への応用 | オリエンタルエンヂニアリング(株)取締役 研究開発部 | ||
| 富士電機のフィルム型太陽電池 | 富士電機(株)電子デバイス事業本部 | ||
| Cu-SCFDプロセスの反応工学的解析と量産対応 － 大型反応器の概念設計 | 東京大学 マテリアル工学専攻 | ||
| CVD 55 (H24.8) | 高効率・薄型HIT太陽電池の開発 | パナソニック(株)ソーラーエナジー研究所 | 髙橋 勲 |
| 航空機エンジン技術でトマトを極薄スライス | (株)IHI 航空宇宙事業本部 主任調査役 | 落合 宏行 | |
| エレクトロニクス応用に向けたナノカーボンのCVD成長 | 九州大学 先導物質化学研究所 准教授 | 吾郷 浩樹 | |
| 自動車産業とハードコーティング技術 | Hauzer Techno-Coating B.V. 日本支店所長 | 綾目 吉彦 | |
| 単一化学気相反応プロセスによるサブミクロンサイズのパーマロイ微粉の合成 | JFEスチール(株)スチール研究所 | 花田 一利 | |
| 大気開放プラズマCVD法による炭素系硬質膜の作製 －容器を用いないプラズマCVDプロセスについて－ | 愛媛大学 大学院理工学研究科 准教授 | 八木 秀次 | |
| Cat-CVD法によるフレキシブル電子デバイス用水蒸気バリア膜の低温形成 | 兵庫県立大学 物質系工学専攻マテリアル・物性部門 准教授 | 部家 彰 | |
| 大容量メモリ開発に向けた半導体加工形状シミュレーション技術 | (株)東芝 セミコンダクター＆ストレージ社 半導体研究開発センター | 玉置 直樹 | |
| CVD 56 (H24.12) | 超臨界流体化学堆積法によるカーボンナノ構造体への超高密度ナノ微粒子担持 | 名古屋大学大学院工学研究科 電子情報システム専攻 准教授 | |
| プラズマCVD中の噴流を用いたSi局所高速製膜 | 岐阜大学大学院工学研究科 環境エネルギーシステム専攻 助教 | ||
| 新材料対応保護膜用CVD装置 | 三菱重工業(株) | ||
| カーボンナノチューブ成長制御と評価 | 高知工科大学 システム工学群（電子・光子） 准教授 | ||
| TSV向け低温成膜技術 | サムコ(株) | ||
| 高分子フィルムへの高性能透明導電形成技術と課題 | 小川創造技術研究所 代表 | ||
| CVD 57 (H25.8) | カネカの太陽電池事業の取り組みについて | (株)カネカ 生産技術研究所 | 清水 一弘 |
| 薄膜シリコン太陽電池の開発状況と技術課題 | 産業技術総合研究所 太陽光発電工学研究センター | 松井 卓矢 | |
| 太陽電池素子作製用のリン拡散ソースの純化とその容器について | ヤマナカセラダイン(株) | 團野 隆夫 | |
| 機能性薄膜・材料の低温形成技術 | 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 准教授 | 石河 泰明 | |
| 気相法炭素繊維VGCF©と用途開発 | 昭和電工(株)先端電池材料部 大川開発センター 副センター長 | 森田 利夫 | |
| DLCコーティング装置の紹介と適用事例 | 神港精機(株) 装置事業部 真空装置技術部 | 寺山 暢之 | |
| CVD 58 (H25.12) | カーボンナノチューブの作製：アーク法とCVD法 | 名城大学材料機能工学科 教授 | |
| GaNおよびAlN微粒子の気相合成 | 静岡大学 創造科学技術大学院 教授 | ||
| 非真空プロセス太陽電池の為の成膜技術 | 兵庫県立大学 電気工学専攻 准教授 | ||
| 炭素繊維複合材料（CFRP）とその用途展開 | 東レ(株)オートモーティブセンター 所長 | ||
| 電気二重層キャパシタの現状と次世代キャパシタ | 日本ケミコン(株) 基礎研究センター センター長 | ||
| PCVD法での成膜による水素、窒素含有量の異なるDLCの構造解析とそのトライボロジー特性 | 三恵技研工業 | ||
| 気相プロセスを用いたはっ水・超はっ水処理 | 芝浦工業大学 工学部材料工学科 准教授 | ||
| CVD 59 (H26.8) | 進化するハイブリッド太陽電池－高効率化・高耐久化・高機能化・高付加価値化 | 東京大学先端科学技術研究センター 教授 | 瀬川 浩司 |
| パルスプラズマCVD法によるDLC成膜及び炭素系新材料の合成事業化 | (株)栗田製作所 特別顧問 | 西村 芳実 | |
| 酸化ガリウムMBE成長とデバイス応用 | (株)タムラ製作所 コアテクノロジー本部 セミコン開発室 | 佐々木 公平 | |
| グラフェン超微細デバイスの作製と応用 | 北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 教授 | 水田 博 | |
| CVD法によるB/C/N系およびC/N系ヘテロ原子置換型炭素材料の作製と応用 | 大阪電気通信大学 先端理工学専攻 教授 | 川口 雅之 | |
| 高密度プラズマを用いた大面積成膜装置の開発 | 大日本スクリーン製造(株)FPD機器カンパニー | 杉本 克雄 | |
| 航空宇宙エンジン用CMC部品の開発 | (株)IHI 技術開発本部生産技術センター | 石崎 雅人 | |
| CVD 60 (H26.12) | マリモナノカーボン（球状ナノ炭素繊維集合体）の新規合成法 | 関西大学 | |
| 白色干渉顕微鏡とプローブ顕微鏡を用いた薄膜評価 | 日立ハイテクサイエンス 分析営業部 | ||
| 同 小山事業所 分析技術部 | |||
| 磁気ランダムアクセスメモリ（MRAM）の最新技術動向 | 東北大学 | ||
| Cat-CVD技術の最近の展開 － 高品質膜堆積から新低温不純物ドーピング法の誕生まで － | 北陸先端科学技術大学院大学 名誉教授 | ||
| ガスデポジション法によるリチウム二次電池用ケイ素系コンポジット負極の創製 | 鳥取大学 | ||
| 熱電発電を志向したカーボンナノチューブのドーピング制御 | 奈良先端科学技術大学院大学 | ||
| CVD 61 (H27.8) | 液体シリコンを用いたCVD製膜 | 北陸先端科学技術大学院大学 | 下田 達也 |
| ALD成膜技術と応用 | 三井造船(株) | 服部 望 | |
| 大気圧プラズマCVD法を用いたSi系薄膜形成と応用 | 大阪大学 | 垣内 弘章 | |
| 神戸製鋼のロールトゥーロールプラズマCVD | (株)神戸製鋼所 | 沖本 忠雄 | |
| 高熱流プラズマを用いた機能性ナノ粒子の大量生成 | 金沢大学 | 田中 康規 | |
| DLCバリアボトルとその諸特性 | 三菱樹脂(株) | 柳原 英人 | |
| a-Si:H/c-Siヘテロ界面構造評価：陽電子消滅データに基づく分光エリプソメトリー解析の適用 | 神奈川大学 | 松木 伸行 | |
| CVD 62 (H27.12) | ホットワイヤCVD法によるカーボンナノウォールの作製 | 岐阜大学 | |
| アセチレンブラックの電気化学分野(LiB)への展開と将来展望について | デンカ(株) | ||
| パイロゾルプロセスの紹介 | 日本曹達(株) | ||
| スパッタ法による(K,Na)NbO3非鉛圧電薄膜の開発 | (株)サイオクス | ||
| ナノ結晶シリコンカーバイドの低温CVDとヘテロ接合型結晶シリコン太陽電池への応用 | 東京工業大学 | ||
| カルコゲナイド系層状物質の原子層形成と応用 | 埼玉大学 | ||
| CVD 63 (H28.8) | デュアルマイクロ波プラズマ源CVDにより作製した窒化炭素膜の評価 | 名古屋大学 | 稗田 純子 |
| プラズマCVD 法を利用した透明樹脂板の耐摩耗性能向上と車窓への適用 | 広島県立総合技術研究所 西部工業技術センター | 小島 洋治 | |
| 熱電材料設計の基礎とフレキシブル熱電変換素子 | 奈良先端科学技術大学院大学 | 中村 雅一 | |
| 反応性プラズマ蒸着法を用いた透明導電膜成膜および成膜解析技術 | 住友重機械工業(株) | 北見 尚久 | |
| In-situ CVD法によるカーボンナノファイバー表面への金属のコーティングとそれに基づく複合材料の作製 | 立命館大学 | 小川 文男 | |
| マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜の成長 ～原子レベル制御から高速化、そして自立ウェハの開発へ～ | 金沢大学 | 徳田 規夫 | |
| 最近の化合物系およびCZTS系太陽電池の高効率化に関する研究 | (株)豊田中央研究所 | 田島 伸 | |
| CVD 64 (H28.12) | 窒化物半導体の結晶成長と物性評価・デバイス応用 | 京都大学 | |
| 医療機器部材向け機能性表面処理 | トーカロ(株) | ||
| 超微細シリコンナノ構造の作製と熱電素子への応用 | 東北大学／セントラル硝子(株) | ||
| CVD法で作製する水素分離シリカ膜の細孔径制御 | 工学院大学 | ||
| 切削工具分野における表面処理技術 | 三菱マテリアル(株) | ||
| CVD 65 (H29.8) | 多元材料R&D向けのALD装置開発 | 東北大学 | 熊野 勝文 |
| 結晶シリコン太陽電池セル製造におけるCVD技術 | 明治大学 | 中村 京太郎 | |
| プラズマCVD法によるDLCコーティング技術 | (株)ユーテック | 本多 祐二 | |
| カーボンナノチューブ事業の展開について | (株)名城ナノカーボン | 橋本 剛 | |
| 真空のガス流れの可視化 | (株)カネカ | 清水 一弘 | |
| PECVD法によるガスバリア膜の作製 | 東ソー(株) | 千葉 洋一 | |
| 自動車用樹脂窓のハードコート技術 | 帝人(株) | 新見 亮 | |
| 希土類添加半導体の新展開： 窒化物半導体狭帯域赤色LED | 大阪大学 | 藤原 康文 | |
| CVD 66 (H29.12) | 先進プラズマ技術によるカーボンナノウォールの制御合成とナノバイオ応用 | 名古屋大学 | 近藤 博基 |
| 真空蒸着法で作るペロブスカイト太陽電池 | 東京大学 | 内田 聡 | |
| ナノ膜コーティングSixONyの開発と今後の展開 | ヤマハ発動機(株) | 高橋 尚久 | |
| 高出力縦型パワーデバイス用ダイヤモンド低抵抗ウェハ開発 | 産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター | 大曲 新矢 | |
| 半導体・MEMSのための超臨界CO2流体 | 山梨大学 | 近藤 英一 | |
| III族窒化物半導体放射線検出器に向けた結晶成長技術の開発と諸特性評価 | 静岡大学 | 中野 貴之 | |
| CVD 67 (H30.8) | 切削工具用コーティング技術の進化 | 住友電工ハードメタル(株) | 福井 治世 |
| 大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜の製膜とガス分離への応用 | 広島大学 | 長澤 寛規 | |
| 発電用ガスタービン部品のメンテナンスに関する材料技術 | 東芝エネルギーシステムズ(株) | 齊藤 大蔵 | |
| 炭化水素熱分解へのTabulated chemistryの適用とCFDへの実装 | 東北大学 | 松下 洋介 | |
| ペロブスカイト太陽電池の高性能化技術 | 物質・材料研究機構 | 韓 礼元 | |
| 太陽電池用ペロブスカイト薄膜のCVDプロセスの開発(話題提供) | 京都大学 | 河瀬 元明 | |
| MVD® (Molecular Vapor Deposition) 装置による各種機能膜の成膜 | SPPテクノロジーズ(株) | 藤村 剛 | |
| 二次元材料のエレクトロニクス応用 | (株)富士通研究所 兼 富士通(株) | 佐藤 信太郎 | |
| CVD 68 (H30.12) | CVD合成した原子層材料の機能化 | 名古屋大学 | 竹延 大志 |
| ミスト流を利用したCVDプロセスにおける機能膜形成メカニズム | 高知工科大学 | 川原村 敏幸 | |
| エコフレンドリーで革新的なめっき代替クロムドライコーティング技術CROMATIPIC | IHIハウザーテクノコーティング日本支店 | 滝沢 正明 | |
| 三次元NAND型フラッシュメモリのプロセス技術動向 | 東京エレクトロン(株) | 岩澤 和明 | |
| フレキシブル有機ELにおける現状と課題 ～ 水分侵入を防ぐデバイス構造の研究 ～」 | 山形大学 | 硯里 善幸 | |
| シリコン太陽電池におけるCVDプロセスとデバイス特性 | 産業技術総合研究所 | 布村 正太 | |
| CVD 69 (R01.8) | ルチル型複合酸化物薄膜の作製と機能探索 | 岡山大学 | 村岡 祐治 |
| 微細ナノ構造を用いた可視～紫外フォトニックデバイス | 徳島大学 | 高島 祐介 | |
| 生体適合DLCコーティングの医療機器への応用 | 岡山理科大 | 中谷 達行 | |
| 産業応用を見据えたダイヤモンドウェハ作製技術とCVD法 | 産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター | 山田 英明 | |
| 結晶SiC製品の製造技術と産業応用 | (株)アドマップ | 柳澤 吉彦 | |
| 液中プラズマならびに液中放電の利用と現状 | 愛媛大学 | 向笠 忍 | |
| オンラインCVDと建築用・自動車用ガラスへの適用 | 日本板硝子(株) | 藤沢 章 | |
| 地域資源を活用した熱操作に関する装置開発 | 高知工科大学 | 松本 泰典 | |
| CVD 70 (R01.12) | Atomic layer deposition (ALD) general overview and recent process activity | オックスフォード・インストゥルメンツ(株) | 伊藤 昌平 |
| サファイア基板上窒化ホウ素のCVD成長 | 産業技術総合研究所 中部センター | 山田 永 | |
| 移動体用樹脂グレージングを支えるセラミックコート技術 | イビデン(株) | 久保 修一 | |
| 化学気相浸透法によるCおよびSiC含侵過程のシミュレーション | 名古屋大学 | 則永 行庸 | |
| ディスプレイ向け大型ICP-CVD装置技術 | 日新電機(株) | 酒井 敏彦 | |
| CVD 71 (R02.10) | 独自の高純度化材料を用いたペロブスカイト太陽電池の高性能化研究 | 京都大学 | 若宮 淳志 |
| ミストCVDによるκ-酸化ガリウムのエピタキシャル成長 | 京都工芸繊維大学 | 西中 浩之 | |
| スパッタリングによるDLC成膜 | (株)神戸製鋼所 | 沖本 忠雄 | |
| 切削工具用CVD-AlTiN膜の開発 | 三菱マテリアル(株) | 石垣 卓也 | |
| CVD 72 (R02.12) | CVDプラズマ中のナノ粒子の成長制御と応用 | 九州大学 | 古閑 一憲 |
| 成膜材料と成膜プロセス開発の現状と今後 | (株)ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ | 安原 重雄 | |
| ハライド気相成長法によるβ-Ga2O3高品質ホモエピタキシャル層の高速成長と導電性制御 | 東京農工大学 | 熊谷 義直 | |
| AlGaN混晶のMOVPE成長シミュレーション | KAUST | 大川 和宏 | |
| CVD 73 (R03.3) | カーボンナノチューブ製造技術とその応用，今後の展望 | 日本ゼオン(株) | 上島 貢 |
| 化学気相析出による耐熱性・機能性セラミックス層の作製と微細構造 | 産業技術総合研究所 中部センター | 且井 宏和 | |
| レーザープロセスによるナノ粒子生成と光電デバイスへの活用 | 広島大学 | 齋藤 健一 | |
| 物理蒸着法による極薄熱電対の作製と燃料電池内の温度測定 | 横浜国立大学 | 荒木 拓人 | |
| CVD 74 (R03.8) | レーザーを援用した化学気相析出法による自己配向成長と蛍光体応用 | 横浜国立大学 | |
| グラフェンナノリボンの高度集積化合成と量子デバイス応用 | 東北大学 | ||
| 高密度プラズマによる高性能・高生産性を両立したDLC成膜技術および装置の開発 | トヨタ自動車(株) | ||
| 切削工具用CVDコーティングの開発と展開 | 住友電工ハードメタル(株) | ||
| CVD 75 (R03.10) | 遷移金属カルコゲナイド原子層の化学気相成長 | 東京都立大学 | |
| プラズマCVD法による高品質ダイヤモンドの合成 | 高知工科大学 | ||
| ピュアオゾンの特徴とその材料・デバイス応用 | 明電ナノプロセス・イノベーション(株) | ||
| プラズマCVDでつくる高品質立方晶窒化ホウ素とその応用 | 九州大学 | ||
| CVD 76 (R03.12) | 次世代航空機エンジン用先進遮熱・環境遮蔽コーティング | ファインセラミックスセンター | |
| 低温SiN膜を利用した有機EL封止能評価 | 福岡県産業・科学技術振興財団 有機光エレクトロニクス実用化開発センター | ||
| IoTデバイス向け両面受光5接合および6接合アモルファスシリコン太陽電池 | 東京都市大学 | ||
| ホットフィラメントCVD法によるダイヤモンド被覆工具の成膜技術 | 三菱マテリアル(株) | ||
| 窒化物半導体電子デバイスのプロセス開発と応用 | 豊橋科学技術大学 | ||
| プラズマスプレー法を用いた次世代リチウムイオン電池向けナノ材料の合成 | 東京大学 | ||
| CVD 77 (R04.8) | 金属スクリーンを用いたプラズマ窒化 | 関西大学 | |
| 第一原理計算を用いたALDプロセスの反応メカニズム検討 | 大陽日酸(株) | ||
| 六方晶窒化ホウ素とのヘテロ構造を利用したダイヤモンドトランジスタ | 物質・材料研究機構，筑波大学 | ||
| CISフレキシブル太陽電池 | 産業技術総合研究所 | ||
| ハードコーティングとコーティング装置に関する最近の展開 | (株)IHI | ||
| CVD 78 (R04.12) | HiPIMS法によるDLC成膜技術の応用 | ナノテック(株) | |
| 反応性物質の活用で拓くシリコン系CVDプロセスの可能性 | 横浜国立大学名誉教授，反応装置工学ラボラトリー | ||
| 不純物でスパッタ膜のモフォロジーを制御する～アモルファスからエピ膜まで～ | 九州大学 | ||
| MOCVD法による強誘電体薄膜及びナノ構造の作製 | 兵庫県立大学 | ||
| Use of Direct Liquid Injection (DLI) vaporization for the CVD and the ALD of various materials for diverse applications | KEMSTREAM | ||
| CVD 79 (R05.8) | 遷移金属ダイカルコゲナイドの化学気相成長と原子置換によるマルチスケール構造制御 | 岡山大学 | |
| ScAlMgO4基板上への窒化物半導体のMBE成長 | 立命館大学 | ||
| 大口径・多数枚成膜装置実現に向けた6 inchウェハ上への酸化ガリウムHVPE成膜 | 大陽日酸(株) | ||
| 結晶シリコン太陽電池におけるCVD・ALD技術 | 産業技術総合研究所 | ||
| プラズマCVD法によるシリコンナノ粒子凝集体の高速堆積 | 岐阜大学 | ||
| 不飽和度の異なる炭化水素種からのコーク生成速度の解析 | 京都大学 | ||
| ヨウ化メチルアンモニウム鉛ペロブスカイトのCVDプロセスの開発 | 京都大学 | ||
| CVD 80 (R05.12) | 自動車用パワーデバイス開発の現状とCVD技術 | (株)ミライズテクノロジーズ | |
| MBEを利用した層状カルコゲナイド超薄膜の新奇物性開拓 | 東京大学 | ||
| スパッタPZT薄膜について | 住友精密工業(株) | ||
| テラワット時代の太陽光発電の世界的動向と、運輸や住宅とのセクターカップリング | 産業技術総合研究所 社会とLCA研究Gr | ||
| 窒化物半導体結晶成長に向けた新しいプラズマMOCVDの開発 | 産業技術総合研究所 先進プラズマプロセスGr | ||
| カーボンブラックの基本特性と表面処理について | 東海カーボン(株) |
cvd.jpn.org