| プログラム | |||
| 1日目 8/9(火) | |||
| 13:00〜14:00 | 「金属スクリーンを用いたプラズマ窒化」 | 関西大学 化学生命工学部 教授 | |
| 14:00〜15:00 | 「第一原理計算を用いたALDプロセスの反応メカニズム検討」 | 大陽日酸株式会社 技術開発ユニット | |
| 15:00〜16:00 | 「六方晶窒化ホウ素とのヘテロ構造を利用したダイヤモンドトランジスタ」 | 物質・材料研究機構，筑波大学 准教授 | |
| 16:00〜17:00 | 「CISフレキシブル太陽電池」 | 産業技術総合研究所 主任研究員 | |
| 2日目 8/10(水) | |||
| 9:00〜9:30 | 「株式会社MOLDINO野洲工場のご紹介」 | (株)MOLDINO 野洲工場 開発技術部 部長 | |
| 9:30〜11:00 | 工場見学 | 株式会社MOLDINO 野洲工場 | |
| 11:00〜12:00 | 「ハードコーティングとコーティング装置に関する最近の展開」 | 株式会社IHI | |
| 参加費 | CVD研究会業界会員，業界個人会員 | 33,000円 | |
| CVD研究会個人会員 | 24,000円 | ||
| 共催・協賛団体会員(大学・国公立研究機関関係者) | 29,000円 | ||
| 共催・協賛団体会員(企業関係者) | 42,000円 | ||
| 一般 | 48,000円 | ||
| 学生 | 16,000円 | ||
第77回CVD研究会は現地参加のみでの開催としました。新型コロナウイルス感染の第七波の最中でしたが，28名の方にお集まりいただきました。せっかくの対面開催でしたので，工場見学を企画しました。判断の困難な中，株式会社MOLDINO野洲工場が見学を受けてくださり，滋賀県野洲市での開催となりました。工場見学では，切削工具の製造工程を最後のPVD処理のところまで見せていただくことができました。参加者は皆，興味をもって見学させていただきました。株式会社MOLDINOの皆様とご協力くださった三菱マテリアル株式会社の皆様に感謝申し上げます。 講演では，関西大学の西本先生からは，金属スクリーンを用いたプラズマ窒化についてお話を伺いました。対象物である鋼材そのものを電極にするのではなく，いわゆるメッシュ電極を用いることで，プロセスの自由度が上り，不純物制御ができること，スクリーン電極のスパッタを利用して第3成分を入れられることや，鋼材以外への適用についてもご紹介いただきました。 大陽日酸の村田様には，第一原理計算を用いたALDプロセスの反応メカニズム検討についてご紹介いただきました。実験前に数値シミュレーションで原料や反応条件を検討できるのは開発リードタイム短縮に効果的です。多くの反応経路候補すべてを計算していては時間がかかりすぎますが，有力候補を選ぶ考え方も教えていただきました。 物質・材料研究機構，筑波大学の山口先生には，六方晶窒化ホウ素とのヘテロ構造を利用したダイヤモンドトランジスターについてご講演いただきました。理論的に予測できる性能低下因子に次々と対策され，性能のりっろん限界に近づいてこられたことがよくわかりました。 産業技術総合研究所の上川様には，CISフレキシブル太陽電池をご紹介いただきました。フレキシブルであることを利用した多様な適用先があり，トヨタ自動車の車載用の話もその一環であることがよくわかりました。 IHIの中井様には，IHIグループ各社のコーティング装置を網羅的にご紹介いただきました。工業スケールの製膜装置ならではの課題も理解できました。参加者の中には特定の製品に興味をもたれた方もあったことでしょう。 今回は，いつものような多岐に亘る内容での講演会に加え，製膜プロセスの工場見学まで実現することができました。講演者と工場の皆様ならびに参加者の皆様に感謝します。
| プログラム | |||
| 10:30〜11:30 | 研究紹介および研究室見学 | 京都大学材料化学専攻応用固体化学分野（田中勝久研究室） | |
| 京都大学化学工学専攻反応工学分野（河瀬研究室） | |||
| 12:45〜13:00 | 令和4年度CVD研究会総会 | ||
| 13:00〜13:50 | 「HiPIMS法によるDLC成膜技術の応用」 | ナノテック株式会社 取締役 | |
| 13:50〜14:40 | 「反応性物質の活用で拓くシリコン系CVDプロセスの可能性」 | 横浜国立大学 名誉教授 反応装置工学ラボラトリー | |
| 14:50〜15:40 | 「不純物でスパッタ膜のモフォロジーを制御する〜アモルファスからエピ膜まで〜」 | 九州大学 システム情報科学研究院 教授 | |
| 15:40〜16:30 | 「MOCVD法による強誘電体薄膜及びナノ構造の作製」 | 兵庫県立大学 工学研究科電子情報工学専攻 教授 | 藤澤 浩訓 氏・中嶋 誠二 氏 |
| 16:30〜17:00 | 話題提供「Use of Direct Liquid Injection (DLI) vaporization for the CVD and the ALD of various materials for diverse applications」 | KEMSTREAM President | Herve Guillon 氏 |
| CVD研究会会員 | 3,000円 | ||
| 大学・国公研 教員・研究者・技術者 | 5,000円 | ||
| 共催・協賛学協会会員(企業関係者) | 10,000円 | ||
| 一般 | 15,000円 | ||
| 学生 | 1,000円 | ||
第78回CVD研究会は現地参加のみでの開催としました。30名の方にお集まりいただきました。京都大学桂キャンパスを会場とし，工学研究科材料化学専攻の田中勝久教授の研究室と，工学研究科化学工学専攻の河瀬元明教授の研究室を見学しました。
| 講師 | 山梨大学 大学院総合研究部 教授 近藤英一 氏 |
| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会，化学工学会 超臨界流体部会，CVD研究会 |
| 日程 | 2022年6月20日(月) 15:00〜17:00 |
| 会場 | オンライン（Zoom） |
| 開催趣旨 | 当分科会では，最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムや，CVDプロセスを体系的に学習する講習会に加え，研究者お一方にご自身の研究内容をたっぷりと語っていただく講演会を開催しています．奮ってご参加いただければ幸いです． |
| 講演概要 | 超臨界CO2流体の利用は溶媒代替応用が一般的である。気相と液相の中間的性質を持たせられること、不活性で非電離・中性の媒体であることを思うに、ドライプロセスへの応用も有用であるだろう。薄膜形成(CVD代替)では超臨界CO2媒体のもつ溶媒能や高拡散流束のため良好な段差被覆性や埋め込み性が確保できる。ドライエッチングは反応生成物を揮発させるが、超臨界CO2流体を用いれば低揮発性の物質も除去しうる。本講演では、マイクロエレクトロニクス材料特に配線材料を主な例としてドライプロセスへの超臨界CO2流体の応用を議論する。 |
| Googleフォームからお申し込みください。 | |
| 2022年6月13日(月) （ただし，定員になり次第締め切ります） | |
| 100名 | |
| 無料（当分科会の会員でなくても参加可能，参加費無料） | |
| 担当幹事 | 百瀬 健（東京大学） |
| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 | ||
| 共催 | CVD 研究会，Cat-CVD研究会 | ||
| 日程 | 2022年7月1日(金) 13:00〜18:00 | ||
| 会場 | オンライン（Zoom） | ||
| 参加形態 | リアルタイム参加 | ||
| 参加費(税込) | 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員（無料）， 化学工学会 CVD反応分科会個人会員（2,000円）， 化学工学会 反応工学部会会員（3,000円），化学工学会会員（4,000円）， CVD研究会会員（4,000円），Cat-CVD研究会会員（4,000円）， 非会員（10,000円），学生（無料） | ||
| 問い合わせ先 | CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org | ||
| 開催趣旨 | 気候変動対策をはじめとしてワイドバンドギャップ半導体の実用化が広がっています．これに連動し，更に効率の良いパワーデバイスを視野に入れて，新たなワイドバンドギャップ材料の開発と開拓が進められています．そこで，本シンポジウムでは，現在と将来のパワーデバイスを展望した上で，研究・開発の進捗により可能性が高まった材料について最先端の動きを紹介し，将来と未来を議論します．併せて，新材料に対するCVD法の可能性についても考えます． |
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| プログラム | |||
| 開場 | |||
| 開会挨拶 | |||
| 1．（基調講演）「ワイドバンドギャップ半導体の現状と新材料への期待」 | |||
| （パワーデバイスイネーブリング協会） |
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| 2．「β-Ga2O3結晶の気相エピタキシャル成長の現状と展望」 | |||
| （1東京農工大学，2大陽日酸(株)，3気相成長(株)，4(株)ノベルクリスタルテクノロジー，5情報通信研究機構，6大阪公立大学） |
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| 休憩 | |||
| 3．「2インチ径ダイヤモンドCVD成長の機構と課題」 | |||
| （1佐賀大学, 2アダマンド並木精密宝石(株)） |
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| 4．「窒化アルミニウムの結晶成長とデバイス応用」 | |||
| （山口大学） |
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| 休憩 | |||
| 5．「六方晶窒化ホウ素のCVD成長から2.5次元物質科学へ」 | |||
| （九州大学） |
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| 6．「CVD・ALD用ガリウムプリカーサー」 | |||
| （(株)高純度化学研究所） |
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| 閉会挨拶 | |||
| シンポジウムオーガナイザー | 羽深 等（横浜国立大学） 筑根 敦弘（大陽日酸株式会社） 百瀬 渉（ALDジャパン株式会社） |
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| 主催： | 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会，CVD研究会，Cat-CVD研究会 | |
| 日時： | 2022年12月9日(金) 9:00〜17:00 | |
| 場所： | Zoom ミーティング | |
| 参加費： | (税込・10%対象、テキスト代を含む) | |
| 化学工学会CVD反応分科会法人賛助会員（1口につき1人無料，2人目以降は10,000円）， 化学工学会CVD反応分科会個人会員（10,000円）， 化学工学会反応工学部会会員（12,000円）， 化学工学会会員（15,000円）， CVD研究会会員（12,000円）， Cat-CVD研究会会員（12,000円）， 非会員（20,000円）， 化学工学会学生会員（無料）， その他学生（1,000円） | ||
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Doorkeeperよりお申し込み下さい．申込直後に確認メールを送りますので，doorkeeper.jpドメインからのメール受信を可能としておいてください． アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)を明記の上，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい． |
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| 申込締切： | 2022年12月5日（月） | |
| CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org | ||
| 注意： |
・参加費はクレジットカードにてお支払いください． ・支払いが終わりますと申込完了となり，"CVD反応分科会 via Doorkeeper" <info@cvd-hannoubunkakai.doorkeeper.jp>より申込完了通知メールが届きます． ・オンライン会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日までにメールにてお送りいたします． ・領収書が必要な方は申込完了通知メールの「申し込み内容詳細」をクリックし，「領収書データを見る」より発行ください． ・参加者による録画，録音は一切禁止とします． ・講演内容のオンデマンド配信は行いません． ・懇親会は行いません． |
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| 開催趣旨： |
当会では，最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムに加えて，学生や若手社員などの初学者向けにCVDプロセスの基礎を体系的に学習できる講習会を開催しています．今回は，CVDに加えて，産業界からの要望の多いALDや，計算科学の進展により強力なプロセス開発ツールとなってきた量子化学計算に関する講習も含めております．これからCVDを始める方も，更なる知識の習得を目指す方も奮ってご参加ください． |
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| プログラム： | ||
| 9:00〜9:05 | 開会挨拶 | |
| 9:05〜10:45 | ||
CVD法の概要，CVDプロセスにおける輸送現象と化学反応のモデル化，反応速度論，反応解析，流れと拡散 |
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| 10:45〜11:15 | CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響 | |
CVD装置内の熱・流れと反応（観察・計算），種々装置の計算・解析例，基本的な操作と構造の意味 |
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| 11:15〜11:45 | 量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・開発 | |
量産対応 CVD 装置，反応シミュレーション，枚葉式・複数枚バッチ式，流れ解析 |
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| 11:45〜13:00 | 休憩 | |
| 13:00〜14:00 | CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と素反応シミュレーションの実例 | |
量子化学計算，素反応，遷移状態理論，素反応シミュレーション |
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| 14:00〜14:30 | CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針 | |
蒸気圧，反応性，揮発性，供給方法，輸送 |
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| 14:30〜14:45 | ||
| 14:45〜16:25 | ALDの基礎と応用用途 | |
速度論，反応ケミストリ，吸脱着，温度依存性，表面反応機構 |
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| 16:25〜16:55 | CVDによる粉体合成と粉体コーティング | |
生成・合成の原理，装置の例，粉体（微粒子）の気中挙動とその制御 |
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| 16:55〜17:00 | ||
| 河瀬元明（京都大学），百瀬健（東京大学），杉目恒志（近畿大学） | ||
cvd.jpn.org