平成31年，令和元年CVD研究会活動記録

第69回CVD研究会「第30回夏季セミナー」

日程	令和元年8月8日(木)13:20〜9日(金)16:30
会場	高知工科大学（高知市永国寺町，高知県香美市土佐山田町宮ノ口），高知共済会館 COMMUNITY SQUARE （高知市本町5丁目3-20）
共催	化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
プログラム
1日目 8/8(火)　高知工科大学永国寺キャンパス(高知市永国寺町，高知駅近辺) A201 （60人教室）
13:20〜14:20	「ルチル型複合酸化物薄膜の作製と機能探索」	村岡　祐治 氏(岡山大学 異分野基礎科学研究所 准教授)
14:20〜15:20	「微細ナノ構造を用いた可視〜紫外フォトニックデバイス」	高島 祐介 氏，原口 雅宣 氏, 直井 美貴 氏(徳島大学 大学院社会産業理工学研究部)
15:40〜16:40	「生体適合DLCコーティングの医療機器への応用」	中谷 達行 氏(岡山理科大 フロンティア理工学研究所)
16:40〜17:40	「産業応用を見据えたダイヤモンドウェハ作製技術とCVD法」	山田 英明 氏(産業技術総合研究所 先進パワーエレクトロニクス研究センター)
18:30〜20:00	技術交流会　高知共済会館 (高知市本町5丁目) ※永国寺キャンパスより約1 km
2日目 8/9(水)　高知工科大学香美キャンパス(高知県香美市土佐山田町宮ノ口) K棟３階 K-HALL （126人教室）
8:30〜 高知共済会館から香美キャンパスへバス移動
9:30〜10:30	「多結晶SiC製品の製造技術と産業応用」	柳澤 吉彦 氏(株式会社アドマップ)
10:30〜11:30	「液中プラズマならびに液中放電の利用と現状」	向笠　忍 氏(愛媛大学大学院理工学研究科 准教授)
11:30〜12:30	「オンラインCVDと建築用・自動車用ガラスへの適用」	藤沢 章 氏(日本板硝子株式会社)
13:30〜14:30	特別講演「地域資源を活用した熱操作に関する装置開発」	松本 泰典 氏(高知工科大学 システム工学群 准教授)
14:30〜16:00	高知工科大学研究設備見学
16:30〜 香美キャンパス 東ロータリーから高知駅へバス移動，解散

通常の合宿での講演会に加え，高知工科大学の見学会を行い，またCVD技術とは無関係のスラリーアイスと海洋深層水に関する特別講演も同大学から1件お願いしました。35名の参加者を得て，初日には新しく美しい永国寺キャンパスの講義室での講演会，夕方の宿での情報交換，夜の散策を，二日目はバスで香美キャンパスへ移動し，さらに講演会と特別講演会ならびに川原村先生の実験室，共有分析装置などを見学しました。ご厚意で帰りも高知市までバスを出していただきました。満足度の高い夏季セミナーとなりました。
8月8日夜の参加者の宿泊は会場近くの高知共済会館に確保しました。8月9日はよさこい祭り前夜祭，10日，11日はよさこい祭り本番でした。

第70回CVD研究会

日程	令和元年12月10日(火) 10：30 〜 17：15
会場	名古屋大学東山キャンパス ナショナル・イノベーション・コンプレックス (NIC)１階 Idea Stoa（名古屋市千種区不老町）
共催	化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
プログラム
10:30〜11:20	「Atomic layer deposition (ALD) general overview and recent process activity」	オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社　伊藤 昌平 氏
11:20〜12:10	「サファイア基板上窒化ホウ素のCVD成長」	産業技術総合研究所 中部センター　山田 永 氏
13:30〜13:45	（令和1年度CVD研究会総会）
13:45〜14:35	「移動体用樹脂グレージングを支えるセラミックコート技術」	イビデン株式会社　久保 修一 氏
14:35〜15:25	「化学気相浸透法によるCおよびSiC含侵過程のシミュレーション」	名古屋大学大学院工学研究科化学システム工学専攻 教授　則永 行庸 氏
15:35〜16:25	「ディスプレイ向け大型ICP-CVD装置技術」	日新電機株式会社　酒井 敏彦 氏
	※講演会終了後，ご希望の方は同館4階の名古屋大学低温プラズマ科学研究センターを見学になれます。
18:00〜19:30	技術交流会

講演会に加え，名古屋大学低温プラズマ科学研究センターを見学させていただきました。参加者は37名でした。

共催行事

• 化学工学会CVD反応分科会 第30回シンポジウム「熱電・圧電関係エネルギーハーベスティング技術の最新動向」

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
  共催	CVD 研究会，Cat-CVD 研究会
  日程	平成31年3月5日（火) 13:00〜18:00 (12:30 受付開始)
  会場	東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館3階42講義室（419号室）
  プログラム
  13:00〜13:05	開会挨拶
  13:05〜14:05	1．（基調講演）「プロセスで活きる熱電、プロセスで使う熱電」
  	（産業技術総合研究所） 舟橋 良次 氏
  14:05〜14:45	2．「CMOSプレーナプロセスで製造可能な微小熱電発電デバイス」
  	（早稲田大学） 渡邉 孝信 氏
  14:45〜15:00	Break
  15:00〜15:40	3．「カーボンナノチューブ薄膜を用いた柔軟なエネルギーハーベスティングデバイス」
  	（名古屋大学） 大野 雄高 氏
  15:40〜16:20	4．「太陽誘電の各種ピエゾアプリケーションの紹介とその開発例」
  	（太陽誘電(株)） 後藤 隆幸 氏
  16:20〜16:35	Break
  16:35〜17:15	5．「スパッタリング法による圧電材料薄膜の製造技術」
  	（アルバック(株)） 小林 宏樹 氏
  17:15〜17:55	6．「非鉛圧電体薄膜を用いた高効率MEMS振動発電素子」
  	（大阪府立大学）吉村 武 氏
  17:55〜18:00	閉会挨拶
  18:00〜19:30	懇親会［会場：東京大学工学部4号館3階44講義室（401B号室）］ (参加費 一般: 2,000円，学生: 1,000円)
  【参加費】	化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員(無料)，化学工学会 CVD反応分科会個人会員(2,000 円)，化学工学会 反応工学部会会員(3,000 円)，化学工学会会員(4,000 円)，CVD研究会会員(4,000円)，Cat-CVD研究会会員(4,000 円)，非会員(10,000 円)，学生(無料)
  問い合わせ先	CVD反応分科会事務局　E-mail：cvd@scej.org

• 化学工学会CVD反応分科会 第7回講演会 「CVD装置の表面反応を知って操るには」

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
  共催	CVD 研究会
  日程	令和元年6月4日(火) 15:30〜17:30
  会場	東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館3階43講義室（401A号室）
  講演者	横浜国立大学 大学院工学研究院 機能の創生部門 教授　羽深　等 先生
  講演概要	数値解析と計測を活用してCVD装置の中の移動と化学反応を知れば，表面反応速度を様々に変えて行くことが可能になります．本講演では，（1）クロロシラン系シリコン製膜を例にしてラングミュア型反応速度の上限を超えて速める方法，（2）圧電性結晶振動子による気相雰囲気と堆積量の実時間計測の結果からCVD装置内の様子を知る方法，（3）炭化珪素製膜装置クリーニングを高温・高速化するための耐腐食性保護膜材料の工夫，について紹介いただきました．
  参加費	無料