平成29年CVD研究会活動記録
第65回CVD研究会「第28回夏季セミナー」
日程 | 平成29年8月7日(月)午後 〜 8日(火)正午 |
会場 | 公立学校共済組合 津宿泊所 プラザ洞津(514-0042三重県津市新町1丁目6-28,近鉄津新町駅徒歩2分) |
共催 | 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 |
協賛 | 化学工学会,近畿化学協会,表面技術協会,日本金属学会 |
後援 | 近畿経済産業局 |
講演プログラム(予定) |
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1日目 8/7(月) |
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13:20〜14:20 | 「多元材料R&D向けのALD装置開発」 |
熊野 勝文 氏(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター 産学官連携研究員) |
14:20〜15:20 | 「結晶シリコン太陽電池セル製造におけるCVD技術」 |
中村 京太郎 氏(明治大学 研究・知財戦略機構 特任教授) |
15:40〜16:40 | 「プラズマCVD法によるDLCコーティング技術」 |
本多 祐二 氏(株式会社ユーテック 代表取締役) |
16:40〜17:40 | 「カーボンナノチューブ事業の展開について」 |
橋本 剛 氏(株式会社名城ナノカーボン 代表取締役) |
2日目 8/8(火) |
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8:30〜8:50 | 【話題提供】「真空のガス流れの可視化」 |
清水 一弘 氏(株式会社カネカ 生産技術研究所) |
8:50〜9:50 | 「PECVD法によるガスバリア膜の作製」 |
千葉 洋一 氏(東ソー株式会社 アドバンストマテリアル研究所) |
10:00〜11:00 | 「自動車用樹脂窓のハードコート技術」 |
新見 亮 氏(帝人株式会社 複合成形材料事業本部 グレージング事業推進部) |
11:00〜12:00 | 「希土類添加半導体の新展開: 窒化物半導体狭帯域赤色LED」 |
藤原 康文 氏(大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻 教授) |
定員 | 40名 |
参加費(予定) | 企業会員 | 33,000円 |
| 個人会員 | 24,000円 |
| 共催・協賛団体会員(大学・国公研) | 29,000円 |
| 共催・協賛団体会員(企業関係者) | 42,000円 |
| 学生 | 16,000円 |
| その他 | 48,000円 |
申し込み方法 |
===返信フォーム===
(連絡先など,この書式でなくても結構です)
名前:
所属:
連絡先: 住所 〒
Tel
Fax
e-mail
<以下,不要な項目を削除ください>
セミナー: 出席 欠席 一部参加( 日 : 〜 日 : )
懇親会 : 出席 欠席
宿泊(会場): 希望する 希望しない
その他(ご希望事項等)
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上のフォームに必要事項をご記入の上,下記宛 e-mail でお申し込み下さい。
(参加申込先)
CVD研究会事務局 (河瀬 元明,影山 美帆)
e-mail: cvdcheme.kyoto-u.ac.jp
〒615-8510 京都市西京区京都大学桂
京都大学大学院工学研究科化学工学専攻
Tel: 075-383-2663, Fax: 075-383-2653
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台風が上陸し,強風,大雨の中の開催となりましたが,参加者は35名となりました(一部,台風で来られない方が出ました)。
CVD研究会幹事からの話題提供も行いました。真空の流れの可視化という珍しい話題で好評でした。
第66回CVD研究会
日程 | 平成29年12月11日(月) |
会場 | 愛知工業大学本山キャンパス(〒464-0807 名古屋市千種区東山通1-38-1) |
共催 | 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 |
協賛 | 応用物理学会東海支部,近畿化学協会,表面技術協会,日本金属学会 |
後援 | 近畿経済産業局 |
10:30〜11:20 | 「先進プラズマ技術によるカーボンナノウォールの制御合成とナノバイオ応用」 |
近藤 博基 氏(名古屋大学プラズマナノ工学研究センター 准教授) |
11:20〜12:10 | 「真空蒸着法で作るペロブスカイト太陽電池」 |
内田 聡 氏(東京大学 先端科学技術研究センター 特任教授) |
13:45〜14:35 | 「ナノ膜コーティングSixONyの開発と今後の展開」 |
高橋尚久 氏(ヤマハ発動機株式会社 材料技術部) |
14:35〜15:25 | 「高出力縦型パワーデバイス用ダイヤモンド低抵抗ウェハ開発」 |
大曲 新矢 氏(産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター) |
15:35〜16:25 | 「半導体・MEMSのための超臨界CO2流体」 |
近藤 英一 氏(山梨大学工学部先端材料理工学科 教授) |
16:25〜17:15 | 「III族窒化物半導体放射線検出器に向けた結晶成長技術の開発と諸特性評価」 |
中野 貴之 氏(静岡大学 学術院工学領域電子物質科学系列 准教授) |
参加者は36名でした。
共催行事
主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
共催 | CVD 研究会, Cat-CVD 研究会 |
日程 | 平成29年2月1日(水) 13:00〜17:45 |
場所 | 東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館3階41講義室(417号室) |
開催趣旨 |
エレクトロニクスを中心に原子層堆積(ALD)法,原子層エッチング(ALEt)法の研究開発が広く進められています。これは反応性ガスが表面に単層吸着して自己停止し,それに次の反応を起こさせる操作を加えることによって原子1層ごとに堆積や除去を行う方法です。極めて平坦な層を精密制御して取り扱えることから,膜厚,膜質,段差被覆性,選択性などに関して極めて有利であると考えられています。そこで今回は,ALDとALEtについて研究を進めている研究者に最先端の内容と共に,原子層成長・エッチング技術の基礎に立ちかえり,応用までを見据えた内容をご紹介頂くことと致しました。本シンポジウムが,ALDとALEtに対する理解を深める機会になれば幸いです。 |
13:00〜13:05 |
開会あいさつ |
13:05〜14:05 |
「ALD/ALEtの基本原理と課題・展望」 |
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(東京大学) 霜垣 幸浩 氏 |
14:05〜14:35 |
「ALD反応炉内での原子制御型ドット堆積を目指したスプレー法の開発」 |
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(物質・材料研究機構) 佐藤 宗英 氏 |
14:50〜15:30 |
「SiO2微細加工に対するQuasi-ALEアプローチの有用性」 |
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(東京エレクトロン宮城) 田端 雅弘 氏 |
15:30〜16:10 |
「プラズマと赤外光照射を用いた窒化膜の原子層レベルエッチング」 |
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(日立製作所) 篠田 和典 氏 |
16:25〜17:05 |
「既存ALD材料の組合せによる高性能ガスバリア膜」 |
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(アルバック) 座間 秀昭典 氏 |
17:05〜17:45 |
「室温原子層堆積法の開発とその応用」 |
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(山形大学) 廣瀬 文彦 氏 |
18:00〜19:30 |
懇親会(会場:東京大学工学部4号館3階44講義室(401B号室)) |
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参加費:一般:2,000円,学生:1,000円 |
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主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
共催 | CVD 研究会,Cat-CVD 研究会 |
日程 | 平成29年11月27日(月) 13:00〜18:00 (12:30 受付開始) |
場所 | 東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館 3階42講義室(419号室) |
プログラム |
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13:00〜13:05 |
開会挨拶 |
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13:05〜14:05 |
1.(基調講演)「輸送・反応系を含むマルチフィジックス・シミュレーションの応用と展望」 |
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(みずほ情報総研(株)) 高山 努 氏 |
14:05〜14:45 |
2.「MOCVD法によるIII族窒化物ヘテロ構造成長中の応力,反り,貫通転位ダイナミクスの数値解析」 |
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(STR Japan(株)) 向山 裕次 氏 |
15:45〜15:00 |
Break |
15:00〜15:40 |
3.「反応工学と第一原理計算を用いた W-ASFD (Advanced Sequential Flow Deposition)の反応解析」 |
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(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株)) 川上 雅人 氏 |
15:40〜16:20 |
4.「繊維プリフォーム高密度化過程の非定常性を考慮した複合材料CVIシミュレーション」 |
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(名古屋大学) 則永 行庸 氏 |
16:20〜16:35 |
Break |
16:35〜17:15 |
5.「ドライプロセスからウェットプロセスまでの薄膜作製と高度解析」 |
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(計測エンジニアリングシステム(株)) トン リチュ 氏 |
17:15〜17:55 |
6.「有限要素計算による微細構造製膜のマルチスケール解析」 |
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(東京大学) 舩門 佑一 氏 |
18:00〜19:30 |
懇親会 (参加費 一般: 2,000円,学生: 1,000円) |
【参加費】 |
化学工学会 CVD 反応分科会法人会員(無料),化学工学会 CVD 反応分科会個人会員(2,000円),化学工学会反応工学部会会員(3,000円),化学工学会会員(4,000円),CVD研究会会員(4,000円),Cat-CVD研究会会員(4,000円),非会員(10,000円),学生(無料) |