平成22年度CVD研究会活動記録

第51回CVD研究会「第21回夏季セミナー」

平成22年8月19日(木) 13:30 〜 20日(金) 12:00
休暇村 近江八幡（523-0801 滋賀県近江八幡市沖島町宮ヶ浜）
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
協賛(予定)　化学工学会関西支部，日本化学会近畿支部，近畿化学協会

8月19日(木)
13:30〜14:30	「CVD技術を用いたガスバリア性膜の開発について」	大日本印刷株式会社 包装事業部 産業資材本部 産業資材研究所	松井 茂樹 氏
14:30〜15:30	「プラズマCVD法によるリチウムイオン電池の電極材や燃料電池の部材の表面修飾（仮題）」	京都大学 工学研究科物質エネルギー化学専攻 准教授	福塚 友和 氏
15:45〜16:45	「フレキシブル応用を目指した塗布型有機デバイスの開発と展望」	富山大学 工学部電気電子システム工学科 教授	岡田 裕之 氏
16:45〜17:45	「新しい反応場を用いた表面機能化プロセス 〜ソリューションプラズマから自己組織化まで〜 」	名古屋大学 エコトピア科学研究所 教授	齋藤 永宏 氏
8月20日(金)
9:00〜10:00	「ユビキタス社会に向けたpoly-Si薄膜トランジスタ型メモリの作製と評価」	神戸市立工業高等専門学校 電気工学科 講師	市川 和典 氏
10:00〜11:00	「CVD法による高性能被覆切削工具の開発」	三菱マテリアル(株) 中央研究所	長田 晃 氏
11:00〜12:00	「チタニアを三次元積層化した光触媒ガラス（仮題）」	兵庫県立大学大学院工学研究科 物質系工学専攻 教授	矢澤 哲夫 氏

参加費
企業会員 33,000円，個人会員 24,000円，共催・後援団体会員(大学・国公立研究機関関係者) 24,000円，共催・後援団体会員(企業関係者) 42,000円，学生 16,000円，その他 48,000円

第52回CVD研究会

平成22年12月13日(月) 10:30 〜 17:15
京都私学会館206号室（600-8424京都市下京区室町通高辻上ル山王町561）
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会

10:30〜11:30	「ナノカーボン材料を用いたナノデバイスとバイオセンサー応用」	大阪大学 産業科学研究所 量子機能科学研究部門 教授	松本 和彦 氏
11:30〜12:00	「パルスCVD/CVI法によるリチウムイオン電池活物質材料の表面修飾」	愛知工業大学 応用化学科 教授	大澤 善美 氏
13:15〜13:30	平成22年度CVD研究会総会
13:30〜14:30	「大気圧プラズマジェットおよびアトム窒化法の研究開発」	豊田工業大学 X線レーザー・プラズマ工学研究室 教授	原 民夫 氏
14:30〜14:55	「セントラル硝子の事業内容とCVD技術」	セントラル硝子株式会社 ファインケミカル営業第２部	毛利 勇 氏
15:15〜16:15	「AlGaN系深紫外発光素子対応半導体層のMOCVD成長」	立命館大学 立命館グローバル・イノベーション研究機構　特別招聘准教授	武内 道一 氏
16:15〜17:15	「Si薄膜太陽電池とその周辺の課題」	エバテック株式会社 太陽電池開発本部 常務執行役員本部長	石原 伸一郎 氏
17:30〜19:30	懇親会	ダイニングなごみ烏丸店 (参加費5,000円)

参加費
個人会員 3,000円，企業会員 3,000円，共催・後援団体会員(大学・国公立研究機関関係者) 5,000円，共催・後援団体会員(企業関係者) 10,000円，学生 1,000円，その他 15,000円

共催行事

• シンポジウム「現在の太陽電池，将来の太陽電池 − 性能とその製造技術」(東京)
  

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会，エネルギー部会燃料電池・電池分科会
  共催	CVD 研究会，東工大グローバル COE 「エネルギー学理の多元的学術融合」
  日程	平成22年3月10日(水) 11:00〜17:20 (10:30 受付開始)
  場所	東京工業大学 大岡山キャンパス 百年記念館 3階 フェライト会議室 目黒区大岡山 2-12-1，東急目黒線・大井町線大岡山駅下車徒歩１分
  プログラム
  11:00〜11:05	開会挨拶
  11:05〜12:00	1．「太陽電池への期待と薄膜太陽電池の取り組み」
  	（東京工業大学　電子物理工学専攻 教授） 山 田　 明 氏
  	現在の太陽光発電が置かれている環境を最初に概観し，アモルファス Si およびCu(InGa)Se2 薄膜太陽電池の最近の話題と今後の展望について紹介する。
  12:00〜13:00	昼食
  13:00〜13:35	2．「モノシランガスの製造技術」
  	（電気化学工業株式会社 研究開発部 主幹研究員） 寺崎 隆一 氏
  	薄膜系太陽電池など各種電子デバイスに用いられるモノシランガス (SiH4) の製造技術と今後の展望について紹介する。
  13:35〜14:10	3．「多結晶シリコン製造技術の現状と課題」
  	（株式会社トクヤマ 経営企画室 主席） 　阪井 純也 氏
  	シリコン結晶型太陽電池の原料である多結晶シリコン生産における近年の課題とその対応状況及び残された課題について，今日の生産方法の成り立ちを交えて紹介したい。
  14:10〜14:55	4．「高性能HIT太陽電池の更なる進化に向けた取り組み」
  	（三洋電機株式会社 アドバンストエナジー研究所） 牧　 賢 一 氏
  	実用サイズにおいて世界最高の変換効率を実現している ＨＩＴ 太陽電池の構造，特性などの特徴を紹介し，今までの高効率化の取り組みおよび今後の開発指針などについて紹介する。
  14:55〜15:15	休憩
  15:15〜16:00	5．「色素増感型太陽電池のアプリケーションと製造技術」
  	（ローム株式会社　融合デバイス研究開発センター） 　渡 辺 　実 氏
  	色素増感太陽電池はその特性からモバイル機器をはじめとする様々な応用分野への展開が考えられている。また，低コストな印刷を主体とした製造プロセスについても紹介する。
  16:00〜16:30	6．「第3世代太陽電池の概要とプラズモン利用太陽電池」
  	（東京工業大学 炭素循環エネルギー研究センター 准教授） 伊 原　 学 氏
  	近年注目を集めている将来の高効率太陽電池に向けた新しい概念を簡単に紹介し，局在表面プラズモンを利用した色素増感太陽電池に関する成果を中心に紹介する。
  16:30〜17:00	7．「III/V多接合・量子構造太陽電池の結晶成長技術」
  	（東京大学大学院工学系研究科総合研究機構 准教授） 杉山 正和 氏
  	高効率大規模太陽光発電に適した III/V 多接合太陽電池の有機金属気相成長法による結晶成長技術と，歪み補償量子井戸の挿入による効率向上の取り組みを紹介する。。
  17:25〜19:00	懇親会 (2,000円)
  	百年記念館　レストラン角笛（4 階)
  【参加費】	化学工学会 CVD 反応分科会会員（2,000 円），燃料電池・電池分科会会員（2,000 円），化学工学会正会員・法人会員（4,000 円），学生（無料），CVD 研究会会員（3,000 円），東工大 G-COE 「エネルギー学理の多元的学術融合」メンバー（2,000 円），非会員（10,000 円）

  
  
• ミニシンポジウム「3次元実装の要素プロセス技術」(東京)
  

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
  共催	CVD 研究会，東工大グローバル COE 「エネルギー学理の多元的学術融合」
  日程	平成22年6月9日（水）13：00〜17：10 (12:30 受付開始)
  場所	東京大学 武田先端知ビル5F，武田ホール (東京都文京区弥生2-11-16)
  プログラム
  13：00〜13：05	開会挨拶
  13：05〜13：50	1．「3次元集積化技術の開発動向と展望」
  	（技術研究組合 超先端電子技術開発機構） 嘉田 守宏 氏
  13：50〜14：35	2．「シリコン深掘り技術のTSV加工への適用」
  	（住友精密工業（株）） 野沢 善幸 氏
  14：35〜15：2	3．「TSV向け低温形成絶縁膜技術」
  	（サムコ（株）） 水 口　 武 氏
  15：20〜15：40	Coffee Break
  15：40〜16：25	4．「湿式法による絶縁膜上への金属バリア膜形成」
  	（早稲田大学・吉野電化工業（株）） 吉野 正洋 氏 （早稲田大学）逢坂 哲彌 氏
  16：25〜17：10	5．「めっき技術を用いた3D用TSV銅埋め込み方法」
  	（（株）荏原製作所） 栗山 文夫 氏
  17：20〜19：00	懇親会
  【参加費】	化学工学会 CVD 反応分科会会員（2,000 円），化学工学会正会員・法人会員（4,000 円），学生（無料），CVD 研究会会員（4,000 円），非会員（10,000 円）

  
  
• ミニシンポジウム「超高速・大面積製膜プロセス」(東京)
  

  主催	化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
  共催	CVD 研究会
  日程	平成22年12月22日（水）13：00〜17：00 (12:30 受付開始)
  場所	東京大学山上会館　２階大会議室
  プログラム
  13：00〜13：05	開会挨拶
  13：05〜13：45	1．「大気圧プラズマプロセッシングの基礎と応用」
  	（東京大学 准教授） 一木 隆範 氏
  13：45〜14：20	2．「大気圧プラズマを用いた大面積対応Si成膜技術〜BEANSプロジェクトにおける取組み〜」
  	（技術研究組合BEANS研究所 主任研究員） 村上 隆昭 氏
  14：20〜15：44	3．「Cat-CVD法による大面積・高速製膜技術」
  	（北陸先端科学技術大学院大学 助教） 大平 圭介 氏
  14：55〜15：15	Coffee Break
  15：15〜15：50	4．「有機ELの高速高精度製膜技術」
  	（パナソニック電工（株） 博士） 菰田 卓哉 氏
  15：50〜16：25	5．「量産型MOCVD装置によるGaNおよびAlGaNの高速成長」
  	（大陽日酸EMC（株） 博士） 松本 功 氏
  16：25〜17：00	6．「HVPE法によるGaNの超高速成長」
  	（日立電線（株） 博士） 大島 祐一 氏
  17：30〜19：30	懇親会（参加費：2,000円）
  【参加費】	化学工学会 CVD 反応分科会会員（2,000 円），化学工学会正会員・法人会員（4,000 円），学生（無料），CVD 研究会会員（4,000 円），非会員（10,000 円）