| 日程 | 平成26年8月27日(水)〜28日(木) | ||
| 会場 | 犬山館 〒484-0081 愛知県犬山市大字犬山字大門先50-1 《名鉄犬山遊園駅より徒歩3分》 |
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| 共催 | 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 | ||
| 講演予定 | |||
| 1日目 8/27(水) | |||
| 13:15〜14:15 | 「進化するハイブリッド太陽電池−高効率化・高耐久化・高機能化・高付加価値化」 | 瀬川 浩司 氏(東京大学先端科学技術研究センター 教授) | |
| 14:15〜15:15 | 「パルスプラズマCVD法によるDLC成膜及び炭素系新材料の合成事業化」 | 西村 芳実 氏(株式会社 栗田製作所 特別顧問) | |
| 15:30〜16:30 | 「酸化ガリウムMBE成長とデバイス応用」 | 佐々木 公平 氏(株式会社 タムラ製作所 コアテクノロジー本部 セミコン開発室) | |
| 16:30〜17:30 | 「グラフェン超微細デバイスの作製と応用」 | 水田 博 氏(北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 教授) | |
| 2日目 8/28(木) | |||
| 9:00〜10:00 | 「CVD法によるB/C/N系およびC/N系ヘテロ原子置換型炭素材料の作製と応用」 | 川口 雅之 氏(大阪電気通信大学 先端理工学専攻 教授) | |
| 10:10〜11:10 | 「高密度プラズマを用いた大面積成膜装置の開発」 | 杉本 克雄 氏(大日本スクリーン製造株式会社 FPD機器カンパニー) | |
| 11:10〜12:10 | 「航空宇宙エンジン用CMC部品の開発」 | 石崎 雅人 氏(株式会社 IHI 技術開発本部生産技術センター) | |
| 定員 | 35名 | ||
| 参加費 | 企業会員 | 33,000円 | |
| 個人会員 | 24,000円 | ||
| 共催・後援団体会員(大学・国公研) | 29,000円 | ||
| 共催・後援団体会員(企業関係者) | 42,000円 | ||
| 学生 | 16,000円 | ||
| その他 | 48,000円 | ||
| 日程 | 平成26年12月18日(木) 10:30〜17:15 | ||
| 会場 | キャンパスプラザ京都（京都駅前）2階 第1会議室 | ||
| 共催 | 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 | ||
| 講演プログラム | |||
| 中川 清晴 氏(関西大学 環境都市工学部 准教授) | |||
| 11:20〜12:10 | 「白色干渉顕微鏡とプローブ顕微鏡を用いた薄膜評価」 | 石橋 清隆 氏(日立ハイテクサイエンス 分析営業部 部長代理)・小野田 有吾 氏(同 小山事業所 分析技術部) | |
| 13:25〜13:40 | 平成26年度CVD研究会総会 | ||
| 13:40〜14:30 | 「磁気ランダムアクセスメモリ（MRAM）の最新技術動向」 | 小池 洋紀 氏(東北大学 国際集積エレクトロニクス研究開発センター) | |
| 14:30〜15:20 | 「Cat-CVD技術の最近の展開 − 高品質膜堆積から新低温不純物ドーピング法の誕生まで − 」 | 松村 英樹 氏(北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 名誉教授・ナノマテリアルテクノロジーセンター 特任教授) | |
| 15:35〜16:25 | 「ガスデポジション法によるリチウム二次電池用ケイ素系コンポジット負極の創製」 | 坂口 裕樹 氏(鳥取大学大学院工学研究科 化学・生物応用工学専攻 教授) | |
| 16:25〜17:15 | 「熱電発電を志向したカーボンナノチューブのドーピング制御」 | 野々口 斐之 氏(奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 助教) | |
| 17:45〜20:30 | 懇親会（会場：京都駅ビル京都劇場2階 ITALICO） | ||
| 参加費 | CVD研究会会員 | 3,000円 |
| 関係学協会会員(大学・国公研) | 5,000円 | |
| 関係学協会会員(企業関係者) | 10,000円 | |
| 学生 | 1,000円 | |
| その他 | 15,000円 | |
| 懇親会費 | 5,000円 |
雪のために東海道新幹線が1時間程度遅れるなどしたために，遅れて見える方が多かったですが，当日欠席の方はなく無事に開催されました。
| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
| 共催 | CVD 研究会 |
| 日程 | 平成26年1月29日（水) 13:10〜17:50 |
| 場所 | 早稲田大学 西早稲田キャンパス 62W号館 大会議室 |
| 開催趣旨 | 現在，エレクトロニクス関係から食品関係まで，色々な分野で「保護膜」が用いられています。本シンポジウムで取り上げる保護膜とは，基本的に，外部からの物理的刺激や化学的刺激から内部の材料を保護する薄膜を指しますが，保護すべき材料に応じて，保護膜自体に求められる特性は異なります。そのため，保護膜材料やその成膜方法は多種多様であります。但し，世に出ている商品レベルにおいては，保護膜自体に非常に多くのノウハウが含まれており，その特定の分野を研究・開発されている方々以外には，なかなかその本質を知ることができません。今回は，様々な高機能保護膜について，材料や特性，成膜プロセス等を，各分野での専門家にご紹介頂きます。本シンポジウムが，各種保護膜に対する理解を深める機会になれば幸いです。多数のご参加をお待ち申し上げております。 |
| 開会あいさつ | |
| 「ハイバリア性評価方法と国際標準化」 | |
| （明治大学） |
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| 「パッケージ用透明蒸着フィルムについて」 | |
| （大日本印刷） |
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| 休憩 | |
| 「ナノシート積層によるガスバリア膜の開発」 | |
| （産業技術総合研究所） |
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| 「Cu配線用バリア絶縁膜と製膜原料の設計」 | |
| （大陽日酸） |
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| 休憩 | |
| 「強誘電体メモリ(FRAM)における保護膜の開発」 | |
| （富士通セミコンダクター） |
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| 「フレキシブルデバイスのバリア膜性能および評価技術」 | |
| （ＴＩ） |
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| 懇親会（参加費 一般：2,000円，学生：1,000円） |
cvd.jpn.org