令和7年CVD研究会活動記録

第83回CVD研究会・高機能トライボ表面プロセス部会第26回例会・第5回c-ARPプラズマセミナー

令和7年5月9日(金) 13:00 〜 17:00（研究会）、17:30〜19:30（情報交換会）
岐阜大学 TOIC棟（OKB岐阜大学プラザ1階）（岐阜大学構内 正門を入りすぐ右）
主催　(一社)表面技術協会 高機能トライボ表面プロセス部会，CVD研究会，国立大学法人東海国立大学機構 岐阜大学 工学部附属プラズマ応用研究センター
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
プログラム
13:00〜13:05 開会挨拶
13:05〜13:55 「スーパーコンピュータを活用したダイヤモンドライクカーボンによる超低摩擦・超低摩耗実現のための計算科学シミュレーション」 東北大学 金属材料研究所　久保 百司 氏
13:55〜14:45 「高活性原料を利用した原子層堆積法による薄膜形成技術の検討・開発」 大陽日酸(株)　清水 秀治 氏
14:45〜15:00 休憩
15:00〜15:50 「サムコのプラズマ技術によるALD装置・プロセス開発　〜未来を拓く薄膜技術〜」 サムコ(株)　古谷 直大 氏
15:50〜16:40 「被削材との凝着現象に着目した工具用CVD皮膜開発」 三菱マテリアル(株)　奥出　正樹　氏
16:40〜16:45 閉会挨拶、名刺交換
17:15〜17:30 バス移動
17:30〜19:30 情報交換会
19:30〜 岐阜駅へバス移動
参加費 CVD研究会会員 4,000円
共催団体（大学・国公研） 6,000円
共催団体 (企業) 10,000円
一般 15,000円
学生 2,000円
情報交換会参加費 6,000円
申込締切 令和7年4月21日(月) 12時
申込方法 https://forms.gle/FJWZKgP2J6d9GeWRAよりお申し込みください。シンポジウムおよび情報交換会の参加費合計額を、以下の口座へお振り込みください。申し訳ございませんが、今回はクレジットカード決済の取り扱いはございません。
請求書、領収書が必要な方は、事務局にご連絡ください。
三菱UFJ銀行　洛西出張所
普通口座：３７４１２２０
口座名義： ＣＶＤ研究会事務局河瀬元明 （シーウ゛イテ゛イーケンキュウカイ　カワセ）
（漢字名とカナ名の不一致は銀行のシステムの制限によるものです）
なお、当研究会はインボイス制度の適格請求書発行事業者に登録しておりません。ご理解くださいますようお願い申し上げます。
（お問い合わせ先） CVD研究会　（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）
　　　　　　　　 〒615-8510　京都市西京区京都大学桂
参加者 70名

第83回CVD研究会は、(一社)表面技術協会 高機能トライボ表面プロセス部会ならびに岐阜大学工学部附属プラズマ応用研究センターとの共同主催で行いました。初めての試みでしたが、CVD研究会、トライボ部会とも通常よりも多数の参加をいただくことができました。岐阜までお越しくださった皆様、ありがとうございました。


第84回CVD研究会(第34回夏季セミナー)

令和7年8月21日(木) 13:00 〜 8月22日(金) 12:00
熊本市民会館 シアーズホーム夢ホール（熊本市）ならびに Japan Advanced Semiconductor Manufacturing 株式会社(JASM) 熊本工場
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
プログラム
1日め 8/21(木)
13:15〜13:20 開会挨拶
13:20〜14:10 「絶縁膜成膜プロセスにおける大規模カバレッジ・膜質分布の予測と制御」 ソニーセミコンダクタソリューションズ(株) 久保井 信行 氏
14:10〜15:00 「ECRプラズマを応用したスパッタ成膜技術とCVD成膜技術」 (株)日本製鋼所 イノベーションマネジメント本部 電子デバイス技術研究所長 神 好人 氏
15:00〜15:10 休憩
15:10〜16:00 「プラズマプロセスによる機能性材料の合成技術」 長崎大学 大学院総合生産科学研究科 教授 大島 多美子 氏
16:00〜17:00 「切削工具のためのCVD技術： 基礎から最先端応用まで」 京セラ(株) 鹿児島川内工場 機械工具事業本部 機械工具材料開発部 谷渕 栄仁 氏
宿泊 熊本グリーンホテルならびに東横イン熊本新市街
2日め 8/22(金)
8:30〜9:00 (バス移動) ホテル〜熊本大学
9:00〜10:00 大学訪問　 熊本大学 工学部半導体デジタル研究教育機構 百瀬研究室ならびに半導体関係施設
10:00〜10:30 (バス移動) 熊本大学〜JASM熊本工場
10:30〜11:30 工場訪問（ただし、生産設備は見られません。） Japan Advanced Semiconductor Manufacturing 株式会社(JASM)熊本工場
11:30〜12:00 バス移動 JASM熊本工場〜JR肥後大津駅〜熊本空港
参加費 CVD研究会業界会員，業界個人会員 33,000円
CVD研究会個人会員 24,000円
共催・協賛団体会員(大学・国公立研究機関関係者) 29,000円
共催・協賛団体会員(企業関係者) 42,000円
一般 48,000円
学生 16,000円
定員 29名
申込締切 令和7年8月6日(水) 15時（定員に達しましたので、申込受付を終了しました。）
申込方法 Google フォーム https://forms.gle/HeUstsVJRuDG4VnQAよりお申し込みください。シンポジウムおよび情報交換会の参加費合計額を、以下の口座へお振り込みください。申し訳ございませんが、今回はクレジットカード決済の取り扱いはございません。
請求書、領収書が必要な方は、事務局にご連絡ください。
三菱UFJ銀行　洛西出張所
普通口座：３７４１２２０
口座名義： ＣＶＤ研究会事務局河瀬元明 （シーウ゛イテ゛イーケンキュウカイ　カワセ）
（漢字名とカナ名の不一致は銀行のシステムの制限によるものです）
なお、当研究会はインボイス制度の適格請求書発行事業者に登録しておりません。ご理解くださいますようお願い申し上げます。
（お問い合わせ先） CVD研究会　（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）
　　　　　　　　 〒615-8510　京都市西京区京都大学桂
参加者 35名

第84回CVD研究会は、初めて熊本市で行いました。初日は4件の講演を拝聴しました。久保井様には一風変わったシミュレーション技術を披露いただきました。神様にはECRプラズマについて詳しくお話を伺いました。大島先生は粉体圧密層をターゲットとしたスパッタという勇気がいったであろう新手法を教えていただきました。谷渕様には切削工具のコーティングの話を伺いました。技術の大きな流れをわかりやすく解説くださりハードコーティングへの理解が深まりました。2日めは半導体で沸く熊本大学とJASM熊本工場を訪問しました。話題のJASM熊本工場への企業からの参加者の訪問は叶いませんでしたが、近くに行くだけでもその迫力を感じることができました。その迫力は本気度を示していました。建物に入った参加者は、ギャラリーやオフィス設備の見学とCVD技術担当マネージャーとの懇談を行いました。


第85回CVD研究会

令和7年12月9日(火) 10:15 〜 16:50
愛知県産業労働センター ウインクあいち（名古屋市）
共催　化学工学会反応工学部会CVD反応分科会、京都大学工学研究科化学プロセス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
プログラム
10:15〜11:00 「PVDコーティングによる金属窒化物およびDLC」 (株)神戸製鋼所 大塚 康平 氏
11:00〜11:45 「サムコのプラズマ技術によるALD装置およびプロセス開発」 サムコ(株) 古谷 直大 氏
11:45〜13:30 休憩
13:30〜13:40 令和7年度CVD研究会総会
13:40〜14:25 「III-V/Si集積に向けたMOVPE選択成長によるSOI(001)基板上InP系ヘテロ構造形成」 日本電信電話(株) NTT先端集積デバイス研究所 本間 寛弥 氏
14:25〜15:10 「半導体CNTのフレキシブルエレクトロニクス応用」 名古屋大学 大野 雄高 氏
15:10〜15:20 休憩
15:20〜16:05 「カーボンナノチューブ薄膜電極を用いたペロブスカイト太陽電池」 名古屋大学 上岡 直樹 氏
16:05〜16:50 「放射光を活用した機能性薄膜の解析」 日本大学 小川修一 氏
17:20〜19:20 技術交流会 　
参加費 CVD研究会会員 3,000円
大学・国公研 教員・研究者・技術者 5,000円
共催・協賛学協会会員(企業関係者) 10,000円
一般 15,000円
学生 1,000円
交流会費 4,000円
申込締切 令和7年12月2日(火) 12時
申込方法 Google フォーム https://forms.gle/iKPFHbyDqArrgyo58よりお申し込みください。請求書払いを希望される場合は、事務局にご相談ください。
（お問い合わせ先） CVD研究会　（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）
　　　　　　　　 〒615-8510　京都市西京区京都大学桂
参加者 31名

第85回CVD研究会では、31名が集まりました。大塚様からはアークイオンプレーティング装置の紹介をいただきました。DLCを例に、スパッタ装置、熱CVD装置との比較も説明されました。工具への窒化物ハードコーティングについてもお話しくださいました。古谷様には第83回でもお話しいただきましたが再登場願い、ALD装置についてお話しいただきました。酸化物、窒化物のALDでプラズマがどう役に立つかよくわかりました。本間様はシリコン(001)表面からのラテラルART法によってシリコン上にIII-V族半導体を成長させられることを教えていただきました。横成長が想像以上に高速でした。大野先生からはCNTの高い電子移動度、正孔移動度を活かした半導体デバイスの作製について紹介いただきました。上岡先生からはペロブスカイト太陽電池の裏面電極を金属膜からCNT膜に変更する話など、ドーパントを工夫することでCNT膜電極を実現する方法は興味深かったです。小川先生からは分子のエネルギーによってCVDグラフェン膜の欠陥を通過するか、破壊するかをSpring-8での計測とMDシミュレーション結果から説明していただきました。装置の話とCNTの話が2件ずつとなりましたが、今回も幅広いご講演をいただくことができました。今回は初めて参加される方も多かった印象です。講演者ならびに参加者の皆様に感謝します。

共催行事

協賛行事

→平成7年以降の全講演者リスト
↑CVD研究会CVD研究会活動実績
―CVD研究会事務局―
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京都市西京区京都大学桂
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